[实用新型]一种基板取向膜摩擦布和基板取向膜摩擦装置有效
申请号: | 201420103996.4 | 申请日: | 2014-03-07 |
公开(公告)号: | CN203909437U | 公开(公告)日: | 2014-10-29 |
发明(设计)人: | 邓金阳;李默;刘锋 | 申请(专利权)人: | 成都京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337;D03D15/00 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 柴亮;张天舒 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 取向 摩擦 装置 | ||
技术领域
本实用新型属于显示装置制造技术领域,具体涉及一种基板取向膜摩擦布和基板取向膜摩擦装置。
背景技术
在薄膜晶体管液晶显示器生产过程中,需要对涂覆在玻璃基板上的取向膜进行摩擦以形成取向层,取向层对液晶分子产生一定的锚定作用,从而使液晶分子以一定的预倾角定向排列。图1和图2示出了一种摩擦设备的结构,摩擦布(棉布或尼龙布)4通过双面胶5与摩擦辊3粘结,两机械手臂7支撑摩擦辊3两端,摩擦辊3高速旋转带动摩擦布毛11对涂覆在玻璃基板6上的取向膜进行摩擦。
目前,普遍采用的摩擦布4和双面胶5均为绝缘材料制成,高速旋转摩擦产生的大量静电(电压可达1至2kv)累积于摩擦辊3表面、玻璃基板6表面以及摩擦布4表面。这些静电如果不能及时消除,则其放电将击穿取向层使产品成为废品。为了消除生产过程中产生的静电,在支撑横梁1上安装有X射线发生器2,X射线发生器2工作时对空气进行电离,并在一定范围内形成等离子体,等离子体中的电荷对累积在摩擦布4与玻璃基板6表面的静电进行中和,从而达到消除静电的目的。
发明人发现现有技术中至少存在如下问题:一方面,使用的X射线发生器价格昂贵,导致产品的生产成本较高,并且大量使用放射性物质势必对工作人员的健康造成伤害;另一方面,X射线发生器工作时将导致射线照射区域内的摩擦布毛有损伤以致发生掉落,这些掉落的布毛粘结摩擦取向剂后很难被清除,从而会在玻璃基板上产生mura(显示器亮度不均匀)类不良,影响产品品质。因此,如何消除摩擦工艺过程中产生的静电危害,以及减少该工艺不良并降低生产成本已成为液晶显示器生产行业中急需解决的问题。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题包括,针对现有的摩擦工艺过程中静电危害不能有效消除的问题,提供一种基板取向膜摩擦布和基板取向膜摩擦装置,其能够有效地消除摩擦工艺过程中产生的静电危害。
解决本实用新型技术问题所采用的技术方案是一种基板取向膜摩擦布,所述摩擦布包括摩擦基材和导电材料,所述摩擦基材上设有所述导电材料。
本实用新型的基板取向膜摩擦布的摩擦基材上设有导电材料,从而能够把摩擦过程中累积在摩擦布表面的静电及时释放,达到消除静电的效果,进而提升产品品质,降低产品生产成本。
优选的是,所述摩擦基材包括经线和纬线,所述经线之间和/或纬线之间编织有导电材料。
优选的是,所述摩擦基材包括经线和纬线,所述经线上和/或纬线上编织有导电材料。
进一步优选的是,所述导电材料为线状材料。
进一步优选的是,所述导电材料在所述摩擦基材上呈网状排列。
进一步优选的是,所述导电材料为石墨纤维。
进一步优选的是,所述摩擦基材为棉布或尼龙布。
解决本实用新型技术问题所采用的技术方案是一种基板取向膜摩擦装置,包括导电摩擦辊,所述导电摩擦辊接地,所述导电摩擦辊上设有上述摩擦布。
本实用新型的基板取向膜摩擦装置的导电摩擦辊接地,导电摩擦辊上设有上述摩擦布,由于上述摩擦布的摩擦基材上设有导电材料,这样累积在摩擦布上的静电经导电材料以及摩擦辊传导到地面,从而及时地消除了静电。
优选的是,所述摩擦布通过导电双面胶粘结在所述导电摩擦辊上。
优选的是,所述摩擦装置还包括两个机械手臂,所述两个机械手臂分别与所述导电摩擦辊的两端连接,所述导电摩擦辊通过所述机械手臂接地。
优选的是,所述导电摩擦辊为钢制辊。
附图说明
图1为现有的一种摩擦设备的结构示意图;
图2为图1的摩擦设备的侧视结构示意图;
图3为本实用新型的实施例1的基板取向膜摩擦布的结构示意图;
图4为本实用新型的实施例2的基板取向膜摩擦装置的结构示意图;
图5和图6为本实用新型的实施例2的静电荷的传导方向示意图。
其中附图标记为:1、横梁;2、X射线发生器;3、摩擦辊;4、摩擦布;4′、基板取向膜摩擦布;5、双面胶;5′、导电双面胶;6、玻璃基板;7、机械手臂;8、经线;9、纬线;10、导电材料;11、摩擦布毛;12、静电荷。
具体实施方式
为使本领域技术人员更好地理解本实用新型的技术方案,下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述。
实施例1:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司,未经成都京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201420103996.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。