[实用新型]一种自润滑滑块系统有效

专利信息
申请号: 201420119682.3 申请日: 2014-03-18
公开(公告)号: CN203756738U 公开(公告)日: 2014-08-06
发明(设计)人: 彭明强 申请(专利权)人: 长沙润励化工科技有限公司
主分类号: F16C29/02 分类号: F16C29/02;F16C33/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 410000 湖南省长沙市*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 润滑 系统
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种滑块装置,尤其涉及一种自润滑滑块系统。

背景技术

传统的滑块常见的润滑形式为通过人工的方式加入润滑油润滑脂,此种加入方式在定量上不准确,以及对操作人员的素质要求较高。

滑块相对其他的机械零部件具有较大的传动差异性,比如齿轮传动两传动件之间具有较大的间隙,方便润滑油、润滑脂的加入,但是滑块与连接件之间通常间隙较小,常见的配合形式为过渡配合,过渡配合较容易将润滑油润滑脂挤出配合件之间。

实用新型内容

本实用新型的目的是通过设置在接触体与滑块之间的自润滑层用于降低滑块与接触体直接的摩擦磨损,延长使用寿命。

为实现以上技术目的,本实用新型所采用的技术方案:一种自润滑滑块系统,它包括接触体(1)、滑块(3);其特征在于:所述的接触体(1)用于接触滑块(3)方向的表面上设置有一层自润滑层Ⅰ(2);所述的滑块(3)用于接触体(1)方向的表面上设置有一层自润滑层Ⅱ(4),其特征还在于自润滑层Ⅰ(2)的硬度不小于自润滑层Ⅱ(4)的硬度。

在较佳实施情况下,所述的自润滑层Ⅰ(2)表层上设置有用于存储润滑介质的润滑槽Ⅰ(21)。

在较佳实施情况下,所述的自润滑层Ⅱ(4)表层上设置有用于存储润滑介质的润滑槽Ⅱ(41)。

在较佳实施情况下,所述的自润滑层Ⅰ(2)表层上设置有用于存储润滑介质的润滑槽Ⅰ(21),所述的自润滑层Ⅱ(4)表层上设置有用于存储润滑介质的润滑槽Ⅱ(41);所述的自润滑层Ⅰ(2)外表面设置的润滑槽Ⅰ(21)与自润滑层Ⅱ(4)外表面设置的润滑槽Ⅱ(41)不平行。

本实用新型的有益效果:

1、由于接触体与滑块上分别设置有自润滑层,自润滑层的存在能够有效的隔开接触体与滑块,提高接触体与滑块的使用寿命,由于自润滑的作用,能够减少润滑油的使用。

2、由于滑块有时候与接触体之间为过度配合,过渡配合件会影响润滑介质的使用,所以在接触体或滑块上设置有润滑槽,润滑槽能够有利于润滑介质的储存,能够有利的更好的保护整个接触面的使用寿命。

3、所述的自润滑层Ⅰ外表面设置的润滑槽Ⅰ与自润滑层Ⅱ外表面设置的润滑槽Ⅱ不平行,能够防止润滑槽之间的边缘相互摩擦磨损。

4、由于自润滑层Ⅰ的硬度不小于自润滑层Ⅱ的硬度,从而能够降低自润滑层Ⅰ的磨损。

附图说明

图1为本实用新型在一种实施情况下的示意图。

图2为较佳实施情况下,自润滑层Ⅰ表面润滑槽Ⅰ的排列方向。

图3为较佳实施情况下,自润滑层Ⅱ表面润滑槽Ⅱ的排列方向。

具体实施方式

如图1所示,本实用新型的结构构成为:一种自润滑滑块系统,它包括接触体1、滑块3;所述的接触体1用于接触滑块3方向的表面上设置有一层自润滑层Ⅰ2;所述的滑块3用于接触体1方向的表面上设置有一层自润滑层Ⅱ4,其特征还在于自润滑层Ⅰ2的硬度不小于自润滑层Ⅱ4的硬度。

如图2所示,在较佳实施情况下,所述的自润滑层Ⅰ2表层上设置有用于存储润滑介质的润滑槽Ⅰ21。

如图3所示,在较佳实施情况下,所述的自润滑层Ⅱ4表层上设置有用于存储润滑介质的润滑槽Ⅱ41。

图2、图3的结合所示,在较佳实施情况下,所述的自润滑层Ⅰ2表层上设置有用于存储润滑介质的润滑槽Ⅰ21,所述的自润滑层Ⅱ4表层上设置有用于存储润滑介质的润滑槽Ⅱ41;所述的自润滑层Ⅰ2外表面设置的润滑槽Ⅰ21与自润滑层Ⅱ4外表面设置的润滑槽Ⅱ41不平行。

需要说明的是,在本文中,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括哪些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想。以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,由于文字表达的有限性,而客观上存在无限的具体结构,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以做出若干改进、润饰或变化,也可以将上述技术特征以适当的方式进行组合;这些改进润饰、变化或组合,或未经改进将实用新型的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均应视为本实用新型的保护范围。

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