[实用新型]一种用于半导体厂房的洁净室

权利要求书

1.一种用于半导体厂房的洁净室，包括新风输送系统、排气系统和一大型洁净空间及回风通道；

所述大型洁净空间从上到下包括架构空间(4)、洁净空间(5)和循环空间(6)，架构空间和洁净空间之间设有天花板(7)，洁净空间和循环空间之间设有高架地板(2)和混凝土板(3)；所述循环空间内设有生产辅助设备；其特征在于：

所述循环空间内设置生产辅助设备的区域的四周均设有隔板(8)，使其构成独立的密闭空间；循环空间内还设有连通管，连通管的一端与所述密闭空间连通，另一端与洁净室的外界连通；

在所述洁净空间内相对于所述密闭空间的位置设有至少1个回风柱(9)，所述回风柱的顶端与架构空间连通，其底端与高架地板连通；

所述回风柱内设有风机(10)。

2.根据权利要求1所述的洁净室，其特征在于：所述架构空间和高架地板内相对于所述密闭空间的位置均设有第二隔板(11)，使所述密闭空间上方的架构空间、洁净空间，以及高架地板所在的空间构成独立的洁净微环境结构。

3.根据权利要求2所述的洁净室，其特征在于：所述架构空间、高架地板和洁净空间内相对于所述密闭空间的位置均设有第二隔板，使所述密闭空间上方的架构空间、洁净空间，以及高架地板所在的空间构成独立的洁净微环境结构。

4.根据权利要求1所述的洁净室，其特征在于：所述密闭空间的顶端设有密封板(12)，所述密封板设于高架地板和混凝土板之间。

5.根据权利要求1所述的洁净室，其特征在于：所述回风柱内设有干盘管(13)。