[实用新型]一种高真空磁控轴瓦溅镀机

权利要求书

1.一种高真空磁控轴瓦溅镀机，包括溅渡壳体（1），溅渡壳体（1）内设有溅渡腔（2），所述溅渡腔（8）设有溅射靶（2）和轴瓦支撑架（4），所述溅渡壳体（1）底部设有底座（7），其特征在于：在所述，所述底座（7）上设有溅射靶架旋转轴（6），所述溅射靶架旋转轴（6）固定设有用来活动放置溅射靶（2）的溅射靶支撑架（3），所述所述溅射靶（2）为双面靶，正面为镍靶、背面为合金靶，所述溅射靶支撑架（3）中间固定连接有溅射靶架旋转轴（6），两侧边缘为凹凸锯齿状，在所述底座7上还设有挡板（10），所述挡板（10）边缘设有与溅射靶支撑架（3）两侧边缘为凹凸锯齿状配合的凹凸锯齿状，所述轴瓦支撑架（4）包括轴瓦支架旋转轴（5）和活动装设在轴瓦支架旋转轴（5）上用来悬挂轴瓦的挂柱（9）。

2.根据权利要求1所述一种高真空磁控轴瓦溅镀机，其特征在于：在所述底座（7）下方设有电机，所述溅射靶架旋转轴（6）和轴瓦支架旋转轴（5）各独自连接一个电机。

3.根据权利要求1所述一种高真空磁控轴瓦溅镀机，其特征在于：所述轴瓦支架旋转轴（5)表面设有多个螺纹孔，所述挂柱（9）尾端设有与螺纹孔配合的牙，所述挂柱（9）中间半径小于首段半径。

4.根据权利要求1所述一种高真空磁控轴瓦溅镀机，其特征在于：所述每两个根轴瓦支架旋转轴（5）由一个挡板（10）和挡板（10）两侧边缘各垂直紧靠一个溅射靶支撑架（3）以及溅渡壳体（1）围绕着，所述每两个根轴瓦支架旋转轴（5）转向相反，所述溅射靶架旋转轴（6）转向为顺时针。

5.根据权利要求1所述一种高真空磁控轴瓦溅镀机，其特征在于：所述溅渡壳体（1）顶部设置有液压装置（11），所述液压装置（11）通过圆杆贯穿溅渡壳体（1）顶面连接一个设置在溅渡壳体（1）内部的圆形密封盖（12）。