[实用新型]一种掩模颗粒度检测装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及机械技术领域，特别涉及一种掩模颗粒度检测装置。

背景技术

光刻设备是一种将掩模图案曝光成像到硅片或玻璃基板上的设备。掩模传输系统负责物料在曝光成像单元（掩模台）和版盒（物料接口）之间的传送，掩模传输系统是光刻设备的重要组成部分。掩模版在曝光的过程，掩模版上的颗粒对测量是有一定的影响，当颗粒度大于100微米时，可以擦走，当颗粒度小于10微米时，对测量是没有影响的，但是当颗粒度在10-100微米的时候，是擦不走的。因此为了能够对检测其掩模版上10-100微米颗粒，需要对掩模版进行颗粒度检测。

掩模传输系统中的颗粒度检测单元，用以检测掩模版上表面和下表面的颗粒，掩模上大尺寸的颗粒将光刻机的良率降为0，小尺寸的颗粒在影响成像质量降低良率的同时影响器件速度和可靠性方面的性能。

在现有掩模传输系统的颗粒度检测单元工作流程中，首先，交换版机械手的版叉将掩模版放置在颗粒度交接机构的交接工位，颗粒度交接机构进行交接；然后，将掩模版放置颗粒度检测设备检测工位，颗粒度检测设备进行颗粒度检测；最后，检测完成后，交于颗粒度交接机构传送至交换版机械手，再由交换版机械手交接至掩模台。

从上述流程可以发现，在掩模传输过程中增加颗粒度检测，可以有效地增加光刻机的良率。一种良好的颗粒度检测设备，可以提高整个掩模传输效率，使光刻机的曝光质量得到保障。但是，现有的颗粒度检测设备在使用环节，对环境的需求较多，由运动轴运动所产生的颗粒，往往会给颗粒度检测设备带来设备故障，影响设备使用；掩模版需要移动到检测工位，需要进行高精度、高稳定性及高安全性的移动单元。

实用新型内容

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种掩模颗粒度检测装置，包括：掩模版、吸版台、颗粒度交接机构、颗粒度检测设备和环境防护装置；其中，

所述颗粒度交接机构做升降运动将所述掩模版运送至一颗粒度检测工位，被所述吸版台真空吸附固定，由所述颗粒度检测设备进行颗粒度检测；

所述环境防护装置，用于将所述颗粒度检测设备与外界环境隔离。

进一步的，在所述的掩模颗粒度检测装置中，所述吸版台包括：吸版台面、真空接口和掩模存在感应器；

所述吸版台面承载所述真空接口和掩模存在感应器；

所述真空接口，用于真空吸附并固定所述掩模版；

所述掩模存在感应器，用于感应所述掩模版是否存在。

进一步的，在所述的掩模颗粒度检测装置中，所述颗粒度交接机构包括：花键、丝杠、直流电机和同步带轮；其中，所述直流电机驱动所述同步带轮、丝杠进行传动，从而使所述花键进行导向。

进一步的，在所述的掩模颗粒度检测装置中，所述颗粒度交接机构还包括：编码器，用于对由所述直流电机、同步带轮、丝杠和花键构成的运动轴的升降精度进行反馈。

进一步的，在所述的掩模颗粒度检测装置中，所述颗粒度交接机构还包括：工位传感器，用于感应所述由所述直流电机、同步带轮、丝杠和花键构成的运动轴是否运动到所述颗粒度检测工位。

进一步的，在所述的掩模颗粒度检测装置中，所述环境防护装置包括：

同步带，所述同步带两侧设有同步带轮；

直线气缸，通过一固定板与所述同步带连接，设置在所述同步带一侧；

防尘罩，通过一连接件与所述同步带连接，设置在所述同步带另一侧；

导向导轨，与所述防尘罩连接；

开合检测传感器，设置于所述防尘罩的一侧；

所述同步带、直线气缸、防尘罩、导向导轨和开合检测传感器设置于一防尘框架内。

进一步的，在所述的掩模颗粒度检测装置中，所述防尘框架包括：抽颗粒接口。

进一步的，在所述的掩模颗粒度检测装置中，还包括颗粒度检测维护单元，与所述颗粒度检测设备连接。

进一步的，在所述的掩模颗粒度检测装置中，包括：

抽拉滑轨机构，与所述颗粒度检测设备连接；

定位自锁结构，与所述抽拉滑轨机构相对设置。

本实用新型提供的掩模颗粒度检测装置，具有以下有益效果：通过颗粒度交接机构保证了运动精度及重复性；通过有效的安全互锁机制解决进行颗粒度检测时进行交接物料的安全问题；通过环境防护装置解决颗粒度检测设备的工作环境问题。通过的本实用新型的检测流程，使颗粒度检测设备同时具有高精度、高稳定性、高安全性及更加洁净的工作环境。

附图说明

图1是本实用新型掩模颗粒度检测装置与交换版机械手交接示意图；