[实用新型]MIM测试结构有效
| 申请号： | 201420147550.1 | 申请日： | 2014-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN203774315U | 公开（公告）日： | 2014-08-13 |
| 发明（设计）人： | 牛刚;于建姝;赵晓东;段晓博;刘竞文 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | mim 测试 结构 | ||
1.一种MIM测试结构，包括第一检测垫、第二检测垫和MIM区域，所述MIM区域包括自上而下层叠设置的上层金属层、绝缘层和下层金属层，其特征在于，所述MIM区域包括多个MIM模块组成的MIM阵列，所述下层金属层包括至少一组长条形金属线，每组长条形金属线包括两条平行设置的第一金属线和第二金属线，其中第一金属线的一端连接第一检测垫，第二金属线的一端连接第二检测垫，所述上层金属层包括多个阵列排布的矩形金属，每个所述矩形金属与一组长条形金属线部分重合，所述矩形金属与其下方的第一金属线连接，每个矩形金属与其下方的绝缘层以及金属线形成一个MIM模块。
2.如权利要求1所述的MIM测试结构，其特征在于，所述长条形金属线数目选为3～5组。
3.如权利要求1所述的MIM测试结构，其特征在于，每组长条形金属线上矩形金属的数目为5～10个。
4.如权利要求1所述的MIM测试结构，其特征在于，每个所述MIM模块的面积小于等于35μm2。
5.如权利要求1所述的MIM测试结构，其特征在于，所述MIM模块的总面积为400μm2或600μm2。
6.如权利要求1所述的MIM测试结构，其特征在于，所述矩形金属中形成有多个孔槽。
7.如权利要求6所述的MIM测试结构，其特征在于，每个所述矩形金属形成的孔槽数目为5～10个。
8.如权利要求6所述的MIM测试结构，其特征在于，所述孔槽的宽度大于等于2μm，孔槽之间的间距大于等于2μm，孔槽与矩形金属边缘的距离大于等于5μm。
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