[实用新型]一种可产生负离子的花盘结构

权利要求书

1.一种可产生负离子的花盘结构，其特征在于：包括有陶瓷盆体（1）以及人造花（2），陶瓷盆体（1）成型有开口向上的容置腔（11），容置腔（11）内壁的上端部设置有上下间隔布置的上挡肩（12）以及位于上挡肩（12）下方的下挡肩（13），容置腔（11）内于下挡肩（13）的上端侧装设有挡板（3），容置腔（11）内于上挡肩（12）的上端侧装设有插花板（4），挡板（3）搭设于下挡肩（13），插花板（4）搭设于上挡肩（12），插花板（4）开设有上下完全贯穿的插花孔（41），人造花（2）的枝干（21）下端部插入于插花孔（41）内且与挡板（3）的上表面抵接；

容置腔（11）的底部于挡板（3）的下端侧装设有风扇（5）、负离子发生器（6）以及支撑架（7），支撑架（7）罩设于风扇（5）的上方，支撑架（7）的侧壁开设有供气流通过的通气孔（71），负离子发生器（6）装设于支撑架（7）的上端部，陶瓷盆体（1）的侧壁开设有完全贯穿且与容置腔（11）连通的排气孔（14）。