[实用新型]触控面板与具有该触控面板的触控装置有效
申请号: | 201420189100.9 | 申请日: | 2014-04-17 |
公开(公告)号: | CN203773511U | 公开(公告)日: | 2014-08-13 |
发明(设计)人: | 黄俊荣;王盈富 | 申请(专利权)人: | 宸鸿光电科技股份有限公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 赵根喜;李昕巍 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 面板 具有 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及触控技术,特别涉及触控面板以及具有该触控面板的触控装置。
背景技术
触控面板(touch panel)或触控屏幕(touch screen)逐渐普遍应用于电子装置中,特别是可携式或手持式电子装置,例如个人数字助理(PDA)或移动电话。目前的触控面板中,有些面板为增加抗反射能力及提高视觉的清晰度,会在其玻璃基板表面(触控操作表面)镀上一层抗反射膜,藉以降低玻璃基板表面的反射并增加光线通过玻璃基板的穿透率。此外,就设置有摄像孔的触控面板而言,该抗反射膜亦有助于提高影像提取时的影像清晰度。然而随着电子装置与触控面板的演进,高影像清晰度的需求亦不断提升。如何配置抗反射膜以提高影像清晰度乃触控面板产业的一项课题。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型的目的在于有效配置抗反射膜,以提高影像清晰度。本实用新型的实施例提供一种触控触控面板,包含一基板、一遮蔽层以及一第一抗反射层。遮蔽层位于基板的表面,且遮蔽层包含一摄像窗,摄像窗由部分遮蔽层镂空界定于基板的表面,而第一抗反射层则位于摄像窗内。
本实用新型的实施例中,遮蔽层将基板划分为一触控区域与一围绕触控区域的外围区域,且遮蔽层与摄像窗位于外围区域之内。
本实用新型的实施例中,第一抗反射层更覆盖于部分遮蔽层的表面。
本实用新型的实施例中,第一抗反射层限定于摄像窗内。
本实用新型的实施例中,另包含一第二抗反射层位于基板与遮蔽层之间。
本实用新型的实施例中,遮蔽层与第一抗反射层位于第二抗反射层上。
本实用新型的实施例中,基板具有一第一表面以及一第二表面,第一表面与第二表面位于基板的相反侧,且第二抗反射层位于基板的第二表面,另包含一第三抗反射层位于基板的第一表面上。
本实用新型的实施例中,另包含一功能层位于第三抗反射层上,其中功能层包含一防爆层、一抗眩光层、一硬化层以及一防指纹层的其中之一或其组合。
本实用新型的实施例中,基板具有一第一表面以及一第二表面,第一表面与第二表面位于基板的相反侧,且遮蔽层与摄像窗位于基板的第二表面,其中,另包含一第二抗反射层位于基板的第一表面上。
本实用新型的实施例中,另包含一功能层位于第二抗反射层上。功能层包含一防爆层、一抗眩光层、一硬化层以及一防指纹层的其中之一或其组合。
本实用新型的实施例另提供一种触控装置,包含一基板、一显示模块、一遮蔽层与一第一抗反射层。遮蔽层位于基板的表面,且遮蔽层包含一摄像窗,由部分遮蔽层镂空界定于基板的表面。显示模块具有对应至摄像窗的一影像提取元件,而第一抗反射层位于摄像窗内。
本实用新型的实施例中,遮蔽层将基板划分为一触控区域与一围绕触控区域的外围区域,且遮蔽层与摄像窗位于外围区域之内。
本实用新型的实施例中,第一抗反射层更覆盖于部分遮蔽层的表面。
本实用新型的实施例中,另包含一第二抗反射层位于基板与遮蔽层之间。
本实用新型的实施例中,遮蔽层与第一抗反射层位于第二抗反射层上。
本实用新型的实施例中,基板具有一第一表面以及一第二表面,第一表面与第二表面位于基板的相反侧,且第二抗反射层位于基板的第二表面。另包含一第三抗反射层位于基板的第一表面上。
本实用新型的实施例中,另包含一功能层位于第三抗反射层上。功能层包含一防爆层、一抗眩光层、一硬化层以及一防指纹层的其中之一或其组合。
本实用新型的实施例中,基板具有一第一表面以及一第二表面,第一表面与第二表面位于基板的相反侧,且遮蔽层与摄像窗位于基板的第二表面。另包含一第二抗反射层位于基板的第一表面上。
本实用新型的实施例中,另包含一功能层位于第二抗反射层上,其中功能层包含一防爆层、一抗眩光层、一硬化层以及一防指纹层的其中之一或其组合。本实用新型的实施例中,另包含一中介基板位于遮蔽层与显示模块之间。
在本实用新型的实施例中,设置于摄像窗内的第一抗反射层有助于提高光通过摄像窗的光穿透率,例如将原本约90±2%的光穿透率提升至约94±2%。此外,第一抗反射层亦有助于提高影像提取元件提取影像时的清晰度。又,第一抗反射层可限制在摄像窗的范围内,因而使第一抗反射层占较小面积,有助于降低生产成本并提高生产良率。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宸鸿光电科技股份有限公司,未经宸鸿光电科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201420189100.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。