[实用新型]复合器件及开关电源有效
申请号: | 201420192012.4 | 申请日: | 2014-04-18 |
公开(公告)号: | CN203787431U | 公开(公告)日: | 2014-08-20 |
发明(设计)人: | 张邵华 | 申请(专利权)人: | 杭州士兰微电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/088 | 分类号: | H01L27/088;H01L29/10;H01L21/761 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 张振军 |
地址: | 310012*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 复合 器件 开关电源 | ||
技术领域
本实用新型涉及半导体器件及开关电源技术,尤其涉及一种复合器件及开关电源。
背景技术
参考图1,图1示出了现有技术中的一种开关电源100,可以适用于AC-DC和LED驱动,该开关电源100包括:开关电源控制装置101、电阻R1和功率MOS器件102。
仍然参考图1,开关电源100在高压启动时,高压端HV通过电阻R1给开关电源控制装置101的供电端VCC提供启动电流,完成开关电源100的高压启动;在高压启动后,高压端HV又通过电阻R1给开关电源控制装置101的供电端VCC供电;在工作时,开关电源控制装置101的驱动端DRV驱动高压器件102的栅极G,完成功率器件102的源极S或者高压端HV的功率驱动输出。
参考图2,图2示出了图1中的开关电源100内的功率器件102的版图201的示意图,该功率器件102为高压MOS器件。
结合图1和图2在高压MOS器件102的版图201上,正面有栅极G的压点和源极S的压点,背面有漏极D的压点,这三个压点可以完成高压MOS器件102的功率驱动输出功能。
参考图3,图3示出了图2沿AA’方向的纵向剖面的示意图。
如图3所示,以N型器件为例,该高压MOS器件包括:MOS管的N型外延区306,外延区306由电极301引出,形成MOS管的漏极;MOS管的P阱302;MOS管的N型掺杂区305;MOS管的P型掺杂区309,P阱302、P型掺杂区309以及N型掺杂区305通过电极303短路,形成MOS管的源极;MOS管的栅极304。从器件的整体结构而言,上述P阱302、N型掺杂区305、P型掺杂区309以及栅极304等都形成于元胞部分308,元胞部分308是器件的电流导通区域,元胞部分308为有源区,该功率器件可以由众多元胞部分308重复形成;在元胞部分308的边缘以外具有高压环307,高压环307可以包括多个P型掺杂310,该高压环307可以对应于图2所示的区域207。以上器件的内部结构以及工作原理为公知技术,不再详细描述。
结合图1和图3,电极301连接至开关电源100的高压端HV,栅极304连接到开关电源100的驱动端DRV。当栅极304上施加的电压高于阈值电压时,P阱302的表面反型形成沟道,使得MOS管的源极和漏极导通,以进行功率输出。
图1所示的方案通过电阻R1来完成开关电源100的高压启动和给开关电源控制装置101的供电端VCC供电,由于流过电阻R1的电流一直存在,所以存在启动时间和待机功耗的矛盾,即:如果电阻R1的电阻值小,则在高压启动时,高压端HV通过电阻R1给供电端VCC提供的电流大,那么开关电源100的启动时间短,但在高压启动后,由于流过电阻R1的电流大,则开关电源100的待机功耗高;如果电阻R1的电阻值大,则在高压启动时,高压端HV通过电阻R1给供电端VCC提供的电流小,那么开关电源100的启动时间长,而在高压启动后,由于流过电阻R1的电流小,则开关电源100的待机功耗低。
为了兼顾启动时间和待机功耗,在实际应用中电阻R1一般选在MΩ级,但即使这样,在高压端HV的电压值为220VAC时,电阻R1的功耗也达到十几mW至上百mW。
由上,现有技术中的开关电源100通过电阻R1来完成开关电源100的高压启动和给开关电源控制装置101的供电端VCC供电,无法确保既能减少启动时间,又能降低待机功耗。
针对上述问题,现有技术中提出了一种增加耗尽型器件启动的技术方案,如图4所示。在现有开关电源的基础上,图4所示开关电源400增加了高压启动器件403以加快开关电源400的高压启动过程,该高压启动器件403为耗尽型MOS管;高压启动后关闭该高压启动器件403以降低开关电源400的待机功耗,从而提高开关电源400的效率。
现有技术中,高压启动器件403作为单独的器件来使用,主要起到高压信号处理和控制的作用。由于高压启动器件403是一个单独器件,因此开关电源400需要一个额外的元器件,从而增加了系统的复杂程度和成本。
针对上述问题,中国专利申请CN201210492874.4提出了一种合成的器件结构,把低压部分的开关电源控制部分和高压HVMOS部分以及JFET合成在一起,采用高压BCD的工艺进行实现。但是,该技术方案需要采用高压BCD工艺实现,使得整个芯片的工艺复杂,成本昂贵;而且由于高压BCD工艺中HVMOS器件的功耗限制,使得该技术方案无法适用于大功率的应用场景。
实用新型内容
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的