[实用新型]渐变式方阻薄膜

权利要求书

1. 一种渐变式方阻薄膜，包括薄膜体（1）以及位于所述薄膜体（1）上的金属层（2）；其特征是：所述金属层（2）在薄膜体（1）的方阻值呈渐变分布。

2.根据权利要求1所述的渐变式方阻薄膜，其特征是：所述薄膜体（1）采用聚丙烯薄膜。

3.根据权利要求1所述的渐变式方阻薄膜，其特征是：所述金属层（2）采用质量比为4：6的金属锌、金属铝蒸镀在薄膜体（1）上形成。

4.根据权利要求1所述的渐变式方阻薄膜，其特征是：所述金属层（2）的方阻值为2~20Ω/口，金属层（2）在薄膜体（1）上方阻值的分布特征为                                               ，其中，e为常数2.718，D为薄膜体（1）的宽度，。