[实用新型]RH真空炉有效
申请号: | 201420199666.X | 申请日: | 2014-04-23 |
公开(公告)号: | CN203820837U | 公开(公告)日: | 2014-09-10 |
发明(设计)人: | 赵勇;刘小鸥;何金平;王春锋;钱龙;刘先同;鲁娟;张利琴 | 申请(专利权)人: | 武汉钢铁(集团)公司 |
主分类号: | C21C7/10 | 分类号: | C21C7/10 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人: | 邬丽明 |
地址: | 430080 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | rh 真空炉 | ||
技术领域
本实用新型涉及炼钢领域,尤其涉及一种RH真空炉。
背景技术
RH真空炉是炼钢工序中对钢水进行真空处理的关键设备。RH真空炉用于消除钢水中氢造成的白点。当钢水经RH真空炉处理后,钢中氢含量可快速下降到2ppm以下。目前通过对钢水进行真空处理后可以得到纯净度很高的钢水,一般地,钢水中P+S+ H+O+N≤100ppm。同时,通过RH真空炉可开发生产出许多高纯净度、高附加值品种。具体地,对钢水进行真空处理时,RH真空炉H型下部两只插入管直接插入钢包的钢水里,其中第一插入管吹入氩气并利用蒸汽真空泵抽真空将钢水提起,第二插入管不吹入氩气,使钢水在第一插入管中提起,钢水在第二插入管中流出。钢包中的钢水在第一插入管中反复提起、抽真空后在第二插入管中流出,钢水不断循环,直到真空处理完。
由于高温钢水一般大于1600℃,其在RH真空炉中反复循环,因此RH真空炉容易漏钢。通常RH真空炉底部循环管与下部对接的插入管都是各自分别砌筑耐火砖后再对接,对接后在将两部分钢结构焊接在一起。在RH真空炉生产过程中,由于RH底部循环管与插入管之间的钢结构离钢水最近,钢结构的温度很高,其在1600℃以上的高温下容易发生钢结构形变,造成托砖盘的上抬,导致插入管耐火砖与循环管耐火砖间出现砖缝,引起插入管法兰穿漏。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是:提供一种插入管耐火砖与循环管耐火砖间不出现砖缝的RH真空炉。
本实用新型为解决上述技术问题所采取的技术方案为:
一种RH真空炉,其包括插入管、砌筑在所述插入管外的插入管耐火砖、底部钢结构、循环管以及循环管耐火砖。所述插入管与底部钢结构焊接在一起。所述循环管以及循环管耐火砖均为直筒形。所述插入管上直接砌筑循环管,所述插入管耐火砖上直接砌筑循环管耐火砖,且所述插入管与底部钢结构焊接方式为坡口焊。
上述方案中,所述循环管是分层砌筑在所述插入管上。
上述方案中,所述循环管耐火砖是分层砌筑在所述插入管耐火砖上,且每层循环管耐火砖对应一层循环管。
与现有技术相比,本实用新型取得的技术效果是:
所述RH真空炉包括的所述循环管耐火砖直接砌筑在所述插入管耐火砖上,即所述循环管耐火砖与所述插入管耐火砖结合成一个整体,不受外部钢结构变形的影响,不会出现砖缝,从而避免了插入管与循环管之间出现跑钢的现象。
附图说明
图1是本实用新型实施例提供的RH真空炉的剖面示意图。
图2是图1中的II部分的放大示意图。
图中:10-RH真空炉,1-插入管,2-插入管耐火砖,3-底部钢结构,4-循环管,5-循环管耐火砖,6-坡口焊,7-支撑台。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的描述,当然下述实施例不应理解为对本实用新型的限制。
参见图1与图2,本实用新型实施例提供一种RH真空炉10,其包括插入管1、砌筑在所述插入管1外的插入管耐火砖2、底部钢结构3、循环管4以及循环管耐火砖5。
所述插入管1与底部钢结构3焊接在一起。在本实施例中,所述插入管1与底部钢结构3焊接方式为坡口焊6。
在本实施例中,所述循环管4为直筒形,所述插入管1上直接砌筑循环管4。在本实施例中,所述循环管4是分层砌筑在所述插入管1上。换而言之,所述支撑台7未设置有与循环管耐火砖5卡合的托砖盘。
在本实施例中,循环管耐火砖4为直筒形,所述插入管耐火砖2上直接砌筑循环管耐火砖4。所述循环管耐火砖4是分层砌筑在所述插入管耐火砖2上,且每层循环管耐火砖4对应一层循环管4。
本实用新型具有如下优点:
所述RH真空炉10包括的所述循环管耐火砖5直接砌筑在所述插入管耐火砖2上,即所述循环管耐火砖5与所述插入管耐火砖2结合成一个整体,不受外部钢结构变形的影响,不会出现砖缝,从而避免了插入管1与循环管4之间出现跑钢的现象。换而言之,由于所述支撑台7未设置有与循环管4卡合的托砖盘,因此,在RH真空炉10生产过程中,即使钢结构在高温下产生形变而造成拖砖盘上抬,也不会导致所述循环管耐火砖5与所述插入管耐火砖2之间出现砖缝,因此可以避免插入管1与循环管4之间出现跑钢的现象。
需要说明的是,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本实用新型的技术方案进行修改或等同替换,而不脱离本实用新型技术方案的宗旨和范围,其均应涵盖在本实用新型的权利要求范围当中。
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