[实用新型]按摩足浴盆有效
| 申请号： | 201420205237.9 | 申请日： | 2014-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN204016100U | 公开（公告）日： | 2014-12-17 |
| 发明（设计）人： | 吴树功 | 申请（专利权）人： | 吴树功 |
| 主分类号： | A47K3/022 | 分类号： | A47K3/022;A61H15/00 |
| 代理公司： | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人： | 张文祎 |
| 地址： | 466232 河南省周口*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 按摩 浴盆 | ||
【权利要求书】：
1.一种按摩足浴盆，其特征在于：所述按摩足浴盆包括盆座和设置在盆座内部的盆体；
所述盆体内部设有可容纳脚的盆腔，所述盆腔包括呈匹配对称设置的左按摩区和右按摩区，左按摩区内的盆体内侧底面上和右按摩区内的盆体内侧底面上分别设有足底按摩装置；
所述足底按摩装置包括按摩转盘和偏心轴固按摩头；
所述按摩转盘为圆形；所述偏心轴固按摩头固结于按摩转盘的盘面上，且所述偏心轴固按摩头随按摩转盘一起绕按摩转盘的圆心竖向轴线转动；
所述按摩转盘的盘面上还设置有至少两组沿按摩转盘周向方向均匀设置的按摩滚珠组；
所述按摩滚珠组包括至少两个沿着按摩转盘径向方向排列设置的按摩滚珠；
所述按摩转盘可沿顺时针方向旋转和逆时针方向旋转。
2.根据权利要求1所述的按摩足浴盆，其特征在于：所述盆体的上端面设有用于操控按摩转盘的旋转方向和转速的操作面板。
3.根据权利要求1所述的按摩足浴盆，其特征在于：所述盆座和盆体之间设有用于带动按摩转盘旋转的电机。
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