[实用新型]一种全硅结构的微机电系统真空传感器有效

专利信息
申请号: 201420210417.6 申请日: 2014-04-28
公开(公告)号: CN204142415U 公开(公告)日: 2015-02-04
发明(设计)人: 戴永正;陈厚源;顾宇锋;钱雨;孟宪忠;刘波 申请(专利权)人: 国家电网公司;江苏南瑞泰事达电气有限公司;江苏省电力公司;江苏省电力公司泰州供电公司
主分类号: G01L21/16 分类号: G01L21/16
代理公司: 泰州地益专利事务所 32108 代理人: 王楚云
地址: 100031 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 结构 微机 系统 真空 传感器
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种全硅结构的微机电系统真空传感器。 

背景技术

目前的真空传感器的电极片采用普通的电极片,它不但耐热性能比较差,无法满足真空灭弧室产生的900℃的高温,,而且无法产生气体阻尼,从而真空度的测量范围比较小。 

发明内容

本实用新型提供了一种全硅结构的微机电系统真空传感器,它不但可以使真空度的测控I昂范围大,而且可以耐高温,不放气,避免出现破坏真空度的现象。 

本实用新型采用了以下技术方案:一种全硅结构的微机电系统真空传感器,它设有真空传感器的主体,所述的真空传感器的主体设有载体,在载体的中心设有通孔,在载体一侧的外侧设有芯片架Ⅰ,在载体另一侧的外侧设有芯片架Ⅱ,芯片架Ⅰ与芯片架Ⅱ对称设置,在载体一侧的内侧设有电极片Ⅰ,在载体Ⅱ另一侧的内侧设有电极片Ⅱ,电极片Ⅰ与电极片Ⅱ对称设置在通孔的两侧与通孔相邻,在芯片架Ⅰ与芯片架Ⅱ之间横向设有电极片Ⅲ,电极片Ⅲ覆盖在电极片Ⅰ、通孔和电极片Ⅱ的上部,电极片Ⅲ与电极片Ⅰ、通孔和电极片Ⅱ相对,在电极片Ⅲ与电极片Ⅰ、通孔和电极片Ⅱ之间设有真空层,在电极片Ⅲ的上部设有感应片,在感应片的中心设有弹性元件。 

所述的电极片Ⅰ为多晶硅。所述的电极片Ⅱ为多晶硅。所述的电极片Ⅲ为多晶硅。所述的弹性元件为上窄下宽的梯形,弹性元件为弹片。 

本实用新型具有以下有益效果:采用了以上技术方案,本实用新型在电极片Ⅲ与电极片和电极片Ⅱ之间设有真空层,这样在电极片Ⅲ与电极片Ⅰ以及电极片Ⅲ与电极片Ⅱ设有气隙,气隙形成强烈的气体阻尼,利用气压与气体运 动阻尼的关系,从气体阻尼的衰减特性既可以测量谐振腔的真空度,测量范围10—2—102Pa,从而可以满足真空断路器10—2—10—1Pa真空测量范围的要求,而且电极片Ⅰ为多晶硅,电极片Ⅱ为多晶硅,电极片Ⅲ为多晶硅,这样在测量时经受真空灭弧室制造的900℃的高温,不放气,直接埋入真空灭弧室,实现对真空灭弧室真空度的直接测量,信号采用电容耦合和无线传输,在埋入真空灭弧室时不会破坏真空度,满足埋入真空灭弧室的要求。本实用新型感应片的中心设有弹性元件,弹性元件为上窄下宽的梯形,弹性元件为弹片,这样弹片与真空断路器内设有的振荡器相对应进行真空度的检测,无需穿过绝缘外壳的直接的电极引线,采用无线传输,使用更加安全方便。 

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。 

具体实施方式

在图1中,本实用新型提供了一种全硅结构的微机电系统真空传感器,是它设有真空传感器的主体,所述的真空传感器的主体设有载体1,在载体1的中心设有通孔2,在载体1一侧的外侧设有芯片架Ⅰ3,在载体1另一侧的外侧设有芯片架Ⅱ4,芯片架Ⅰ3与芯片架Ⅱ4对称设置,在载体1一侧的内侧设有电极片Ⅰ5,电极片Ⅰ5为多晶硅,在载体Ⅱ2另一侧的内侧设有电极片Ⅱ6,电极片Ⅱ6为多晶硅,电极片Ⅰ5与电极片Ⅱ6对称设置在通孔2的两侧与通孔2相邻,在芯片架Ⅰ3与芯片架Ⅱ4之间横向设有电极片Ⅲ7,电极片Ⅲ7为多晶硅,电极片Ⅲ7覆盖在电极片Ⅰ5、通孔2和电极片Ⅱ6的上部,电极片Ⅲ7与电极片Ⅰ5、通孔2和电极片Ⅱ6相对,在电极片Ⅲ7与电极片Ⅰ5、通孔2和电极片Ⅱ6之间设有真空层8,在电极片Ⅲ7的上部设有感应片9,在感应片9的中心设有弹性元件10,弹性元件10为上窄下宽的梯形,弹性元件10为弹片。 

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