[实用新型]一种测试结构有效
| 申请号： | 201420226868.9 | 申请日： | 2014-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN203826374U | 公开（公告）日： | 2014-09-10 |
| 发明（设计）人： | 冯军宏 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 李仪萍 |
| 地址： | 100176 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 测试 结构 | ||
1.一种测试结构，其特征在于，所述测试结构至少包括：
第一梳状金属结构和第二梳状金属结构；
所述第一梳状金属结构包括第一金属梳柄、多个第一金属梳齿及用于连接所述第一金属梳柄和所述多个第一金属梳齿的多个第一二极管，所述第一二极管的阳极连接于所述第一金属梳柄，阴极连接于所述第一金属梳齿，所述第一金属梳齿通过连接金属实现串联连接；
所述第二梳状金属结构包括第二金属梳柄、多个第二金属梳齿及用于连接所述第二金属梳柄和所述多个第二金属梳齿的多个第二二极管，所述第二二极管的阴极连接于所述第二金属梳柄，阳极连接于所述第二金属梳齿，所述第二金属梳齿通过连接金属实现串联连接；
所述第一梳状金属结构和所述第二梳状金属结构通过第三二极管实现连接，所述第三二极管的阳极连接于所述第二梳状金属结构，阴极连接于所述第一梳状金属结构；
所述第一金属梳齿与所述第二金属梳齿相互交叉设置。
2.根据权利要求1所述的测试结构，其特征在于：所述第一梳状金属结构和所述第二梳状金属结构由层间电介质隔开。
3.根据权利要求2所述的测试结构，其特征在于：所述层间电介质的材料为二氧化硅。
4.根据权利要求1所述的测试结构，其特征在于：所述测试结构的金属材质为铜。
5.根据权利要求1所述的测试结构，其特征在于：所述连接金属与所述第一金属梳齿和所述第二金属梳齿垂直分布，中间由层间电介质层隔开，通过中间的通孔实现电性连接。
6.根据权利要求1所述的测试结构，其特征在于：所述连接金属制作于所述第一金属梳齿和所述第二金属梳齿的上层或下层。
7.根据权利要求1所述的测试结构，其特征在于：所述第一二极管、第二二极管及第三二极管为肖特基二极管。
8.根据权利要求1所述的测试结构，其特征在于：所述第一金属梳齿和所述第二金属梳齿的梳齿等间距设置。
9.根据权利要求1所述的测试结构，其特征在于：所述第一金属梳齿和所述第二金属梳齿的梳齿宽度不大于所需测试的金属连线的宽度。
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