[实用新型]用于真空镀膜的玻璃基板架及其镀膜系统

权利要求书

1.用于真空镀膜的玻璃基板架，其特征在于，包括至少一个凹形的用来装载玻璃基板（1）的底面封闭或底面中空的边框容置区(5)。

2.根据权利要求1所述用于真空镀膜的玻璃基板架，其特征在于，所述边框容置区(5)包括用以支撑玻璃基板（1）的底面和形成所述边框容置区(5)的边框的外周边，所述边框容置区(5) 的外周边与所述玻璃基板架(4) 表面平齐或所述边框容置区(5) 的外周边从所述玻璃基板架（4）表面向外延伸。

3. 根据权利要求2所述的用于真空镀膜的玻璃基板架，其特征在于，所述底面与所述玻璃基板架(4)表面垂直距离为0.5mm~5mm；或者所述边框容置区(5) 的外周边与所述玻璃基板架（4）表面的垂直距离为0.5mm~5mm。

4.根据权利要求3所述用于真空镀膜的玻璃基板架，其特征在于，所述边框容置区(5)支撑玻璃基板的位置设置缓冲部件。

5.根据权利要求4所述用于真空镀膜的玻璃基板架，其特征在于，所述玻璃基板架(4)由金属或耐高温板加工制成。

6.包括权利要求1-5任一项的所述用于真空镀膜的玻璃基板架的镀膜系统，其特征在于，还包括玻璃基板架传输装置（7）以及与所述玻璃基板架（4）平行设置的镀膜装置（6）。

7.根据权利要求6所述镀膜系统，其特征在于，所述镀膜装置（6）与所述玻璃基板架（4）的平行间距为10mm~1000mm。

8.根据权利要求7所述镀膜系统，其特征在于，所述镀膜源为旋转靶材或平面靶材磁控溅射源或热蒸发源。

9.根据权利要求8所述镀膜系统，其特征在于，所述玻璃基板架(4)倾斜站立在所述玻璃基板架传输装置（7）上；所述边框容置区(5)的边缘与所述玻璃基板架(4)的水平方向的底边水平线形成倾斜角度。

10.根据权利要求9所述镀膜系统，其特征在于，所述玻璃基板架(4)所在的平面与所述玻璃基板架传输装置（7）的水平面方向构成的玻璃基板架倾角θ为70°~89°，所述边框容置区(5)的边缘与所述玻璃基板架(4)的水平方向的底边水平线所构成的玻璃基板架容置区倾角β为1°~30°。