[实用新型]一种载玻片架有效
申请号: | 201420261571.6 | 申请日: | 2014-05-21 |
公开(公告)号: | CN203842604U | 公开(公告)日: | 2014-09-24 |
发明(设计)人: | 鲜飞军 | 申请(专利权)人: | 博奥生物集团有限公司;清华大学 |
主分类号: | B01L9/00 | 分类号: | B01L9/00 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 关畅;王春霞 |
地址: | 102206 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 载玻片 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种载玻片架,特别涉及一种容纳载玻片且用于载玻片清洗、离心、烘干与表面化学处理的载玻片架。
背景技术
微阵列芯片作为一种快速高效的检测工具而广泛应用于疾病预测与诊断、基因组功能研究、突变检测、SNP分析、药物筛选、法医鉴定、环境监测等。微阵列芯片是将大量特定序列的DNA、蛋白或其他生物组份为探针点,以矩阵形式固定于微阵列基片上,目前的微阵列基片大多采用经过表面化学处理后的特殊载玻片。
载玻片的表面化学处理极为重要,它直接影响探针点与载玻片的结合强度与效率,进而影响结果的检出。由于载玻片表面覆有碎屑、污物等,在各种化学处理前必需清洗。一般地,载玻片清洗过程包括:铬酸洗液浸泡、10%NaOH清洗、1%HCl清洗、超纯水清洗后甩干等工序。清洗洁净后的载玻片,进行表面化学处理。表面化学处理过程包括:载玻片烘干、化学反应、清洗、甩干、烘干等工序。
载玻片的清洗过程与表面化学处理过程,具有如下特点:
(1)为节省成本与减少微阵列基片批间差异,需要一次性清洗与表面化学处理的载玻片数量很多。
(2)载玻片之间不得相互接触与碰撞,以防划伤。
(3)涉及到的工序很多,这些工序在不同的工位上完成,因此需要载玻片在工位之间传递。
(4)为防止污染与交叉反应,上一道工序用到的试剂不能随载玻片或容纳载玻片的工具带到下一道工序。
(5)载玻片需要在铬酸洗液中长时间浸泡(如过夜),并且可能接触到的化学试剂种类很多,如:强酸、碱液、超纯水、醇类、APTES、Poly-L-Lysine、DETA、戊二醛等。
(6)载玻片需要离心,需要在一定温度条件下烘干。
以上特点决定了载玻片的清洗与表面化学处理过程需要一种载玻片架,并且,此种载玻片架必须满足如下要求:
(1)能容纳尽可能多的载玻片;
(2)材料能耐受强酸、强碱、醇类、醛类等试剂;
(3)材料不能太坚硬,足够柔性,以防止碰伤、划伤载玻片;
(4)材料能承受高温;
(5)结构有提手,方便在工序间流转;
(6)结构无死角,防止清洗后试剂残留;
(7)结构能承受一定离心力。
目前,对于载玻片架,已有许多文献与宣传资料报道。根据公开的载玻片架文献或产品宣传资料,载玻片架的材料多用不锈钢、铜等金属,不但太坚硬容易碰伤、划伤载玻片,而且生物惰性不好容易污染试剂;有的载玻片架用玻璃材料,能容纳的载玻片数量太少且不适合离心;另外,结构上大多存在易残留试剂的死角。对于完全能满足上述要求的载玻片架,尚未见到公开报道。为此,有必要开发满足上述要求的载玻片架,对规范操作与提高载玻片的清洗与表面化学处理的高效性、可靠性,进而推动微阵列芯片的实际应用具有重要商业价值。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种载玻片架,具有结构简单、操作方便、性能可靠、清洗后无残留的特点,能够用于载玻片的清洗与表面化学处理。
本实用新型所提供的一种载玻片架,包括上支架、下支架和至少1个提手;
所述上支架和所述下支架通过所述提手相连接,所述上支架与所述下支架之间设有间距,且该间距可调,所述上支架设于所述下支架的上部;
所述上支架和所述下支架上均设有若干对能容纳载玻片的凹槽,且设于所述上支架上的凹槽与设于所述下支架上的凹槽的数量相等且位置相对应;
所述下支架上设有承载载玻片的支撑平面;
所述提手与所述上支架和所述下支架之间为活动连接。
上述的载玻片架,所述提手可为U形提手;可选择柔软且生化惰性好的塑料棒材制成;
所述U形提手的2个侧壁通过设于所述上支架和所述下支架上的通孔Ⅰ与所述上支架和所述下支架相连接,且所述U形提手与所述通孔Ⅰ之间为间隙配合;
所述U形提手的2个侧壁上设有能控制所述上支架和/或所述下支架的相对位置的限位机构,以控制所述上支架与所述下支架之间的距离。
上述的载玻片架,所述限位机构为套设于所述U形提手的侧壁上的凸起,所述凸起的最大长度大于所述通孔Ⅰ的直径,以卡住所述上支架。
上述的载玻片架,所述上支架的下表面设有供离心机吊篮支撑的凹面,可用于离心。
上述的载玻片架,所述下支架的下表面上设有至少1个通孔Ⅱ,以使液体试剂流出,优选设于所述支撑平面上。
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