[实用新型]自对准金属层结构、镜片以及镜片模组

说明书

技术领域

本实用新型涉及晶圆制备技术领域，特别涉及一种自对准金属层结构、镜片以及镜片模组。

背景技术

随着多媒体技术的发展，数码相机、摄影机、具有相机功能的手机越来越受到广大消费者青睐，在人们对数码相机、摄影机、具有相机功能的手机追求小型化的同时，对其拍摄出物体的影像质量提出更高要求，即希望拍摄物体的影像画面清晰，而物体的成像质量在很大程度上取决于数码相机内各光学元件的优劣。

数码相机的镜头一般由至少一个透镜光圈组成，图1是现有技术中晶圆级光学镜片的示意图。透镜光圈1包括：玻璃基板10，所述玻璃基板10包括第一面101以及与所述第一面101相对的第二面102；所述第一面101上设置有第一遮光层11，所述第一遮光层11具有第一图形111；所述第二面102上设置有第二遮光层12，所述第二遮光层12具有第二图形121。所述第二图形121正对所述第一图形111，使得光线正好可以从所述第一图形111和第二图形121中穿过。

然而，在现有技术中，所述第一图形111和第二图形121都是通过光刻-刻蚀的方法分别在所述第一遮光层11和第二遮光层12上形成，使得无法很好的将所述第一图形111与第二图形121对准，从而影响透镜模组的光学性能，进而影响数码相机的成像质量。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种自对准金属层结构、镜片以及镜片模组，可以采用自对准的方法制备电镀金属层(遮光层)，从而提高第一图形与第二图形对准的对准精度。

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种自对准金属层结构，包括：

衬底，所述衬底包括一导电层，所述导电层上包括一图形；

电镀金属层，形成于所述导电层上，所述电镀金属层具有所述图形。

进一步的，在所述自对准金属层结构中，所述导电层为非金属导电层。

进一步的，在所述自对准金属层结构中，所述电镀金属层为电镀铬层、电镀铜层、电镀钨层、电镀铝层、电镀银层、电镀三氧化二铬层、电镀氮化铊层或电镀氧化银层。

根据本实用新型的另一面，本实用新型还提供一种镜片，包括：

玻璃基板，所述玻璃基板包括第一面以及与所述第一面相对的第二面；

所述第一面上设置有第一透明导电层，所述第一透明导电层上包括一第一图形；

第一遮光层，位于所述第一透明导电层上，所述第一遮光层具有所述第一图形，所述第一遮光层为电镀金属层；

所述第二面上设置有第二遮光层，所述第二遮光层中包括第二图形，所述第二图形正对所述第一图形。

进一步的，在所述镜片中，所述第二面与所述第二遮光层之间还设置有一第二透明导电层，所述第二透明导电层具有所述第二图形，所述第二遮光层电镀形成于所述第二透明导电层上。

进一步的，在所述镜片中，所述第二透明导电层为氧化铟锡透明导电层、氧化铟透明导电层、氧化锌透明导电层、氧化锌铝透明导电层、氧化锡透明导电层、氧化锡锑透明导电层或氧化锡氟透明导电层。

进一步的，在所述镜片中，所述第二透明导电层的厚度为0.1μm～2μm。

进一步的，在所述镜片中，所述第二遮光层为电镀铬层、电镀铜层、电镀钨层、电镀铝层、电镀银层、电镀三氧化二铬层、电镀氮化铊层或电镀氧化银层。

进一步的，在所述镜片中，所述第二遮光层的厚度为0.05μm～1μm。

进一步的，在所述镜片中，所述第二图形的宽度为0.1mm～50mm。

进一步的，在所述镜片中，所述第一透明导电层为氧化铟锡透明导电层、氧化铟透明导电层、氧化锌透明导电层、氧化锌铝透明导电层、氧化锡透明导电层、氧化锡锑透明导电层或氧化锡氟透明导电层。

进一步的，在所述镜片中，所述第一透明导电层的厚度为0.1μm～2μm。

进一步的，在所述镜片中，所述第一遮光层为电镀铬层、电镀铜层、电镀钨层、电镀铝层、电镀银层、电镀三氧化二铬层、电镀氮化铊层或电镀氧化银层。

进一步的，在所述镜片中，所述第一遮光层的厚度为0.05μm～1μm。

进一步的，在所述镜片中，所述第一图形的宽度为0.1mm～50mm。

根据本实用新型的另一面，本实用新型还提供一种镜片模组，包括如上所述的任意一项镜片。

与现有技术相比，本实用新型提供的自对准金属层结构、镜片以及镜片模组具有以下优点：