[实用新型]基于背散射成像技术的发射装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及背散射成像检测技术领域，特别是涉及一种基于背散射成像技术的发射装置。

背景技术

背散射成像技术是一种基于康普顿散射效应的新型非入侵性成像技术，现已被用于工业探伤、藏物搜索、边防安检等领域。相比于其他成像技术，背散射成像具有三个优点。(1)用于输出射线的发射装置和用于接收并检测所述发射装置输出的射线的探测装置可以同时放置于被测物体同一侧，因此背散射成像适于探测传统X射线透射技术难以穿透的大型物体以及藏在墙体内部或地下的物体。(2)背散射成像对低原子序数的元素如碳、氢和氧等尤其敏感，因此特别适于发现藏在金属掩体后的有机违禁品如汽油、炸药和毒品等。(3)背散射成像对外界温度湿度条件不敏感，可在恶劣环境中使用。

然而，现有的基于背散射成像技术的检测装置往往因为结构复杂、体积较大，造成便携性不佳。而且，检测装置需要根据被测物体的厚度或深度相应调整射线的强度，现有的基于背散射成像技术的检测装置对射线的强度调整过程复杂，不易操作。

实用新型内容

基于此，有必要针对现有技术问题，提供一种结构简单、对射线强度的调整操作较易的基于背散射成像技术的发射装置。

一种基于背散射成像技术的发射装置，所述发射装置包括源容器和准直器，所述准直器设置于所述源容器上，所述准直器上的准直孔与所述源容器上开设的射线出孔连通；

所述源容器包括：转体和驱动轴，所述转体上开设有两个或多个横截面积不同的直线通孔，两个或多个所述直线通孔的轴线位于同一平面内；

所述源容器的内部开设有容置腔及与所述容置腔连通的用于放置射线源的收容腔，所述收容腔与所述射线出孔位于所述同一平面上，所述转体转动收容于所述容置腔内，所述驱动轴穿设所述源容器并与所述转体驱动连接，所述驱动轴驱动所述转体转动，所述转体的转动平面与所述同一平面平行。

其中一个实施例中，还包括：电机和控制器，

所述电机的动力轴与所述驱动轴连接，以带动所述转体转动，所述控制器与所述电机电气连接，以控制所述电机的动力轴转动幅度。

其中一个实施例中，所述转体为圆球状，两个或多个横截面积不同的所述直线通孔的交汇点位于所述圆球状的状态球心处。

其中一个实施例中，所述转体为圆盘状，两个或多个横截面积不同的所述直线通孔的交汇点位于所述圆盘状的转体圆心处。

其中一个实施例中，还包括支撑轴，所述支撑轴的一端固定于所述源容器内，另一端与所述转体转动连接。

上述基于背散射成像技术的发射装置通过转动驱动轴带动转体旋转，从两个或多个横截面积大小不同的直线通孔中选择适宜横截面积大小的直线通孔，使得射线从该直线通孔内通过，实现射线的射出强度的调节，操作简单易行。

附图说明

图1为本实用新型一较佳实施例之基于背散射成像技术的发射装置的局部侧面剖视图；

图2为图1所示的基于背散射成像技术的发射装置的局部A向剖视图；

图3为本实用新型另一实施例之基于背散射成像技术的发射装置的侧面结构示意图；

图4为本实用新型之基于背散射成像技术的发射装置与探测装置配合使用探测被测物体时的结构示意图。

具体实施方式

为能进一步了解本实用新型的特征、技术手段以及所达到的具体目的、功能，下面结合附图与具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述。

请同时参阅图1和图2，其分别为本实用新型一较佳实施例之基于背散射成像技术的发射装置10的局部侧面剖视图以及图1所示的基于背散射成像技术的发射装置10的局部A向剖视图。

基于背散射成像技术的发射装置10包括：源容器11和准直器12，所述准直器12设置于所述源容器11上，所述准直器12上的准直孔120与所述源容器11上开设的射线出孔110连通。

所述源容器11包括：转体111和驱动轴112，所述转体111上开设有两个或多个横截面积不同的直线通孔1110，两个或多个所述直线通孔1110的轴线位于同一平面内；