[实用新型]一种激光退火设备有效
| 申请号： | 201420283913.4 | 申请日： | 2014-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN203950784U | 公开（公告）日： | 2014-11-19 |
| 发明（设计）人： | 田雪雁 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/268 | 分类号： | H01L21/268 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 激光 退火 设备 | ||
1.一种激光退火设备，包括激光发射装置和退火窗口，所述激光发射装置能够发射用于对工件进行退火的激光束，且所述激光束自所述退火窗口的上方射向所述退火窗口，其特征在于，所述退火窗口的下方设有喷管，所述喷管用于向所述退火窗口的下表面喷射气体。
2.根据权利要求1所述的激光退火设备，其特征在于，所述激光退火设备还包括与所述喷管连通的气源，所述气源用于向所述喷管提供气体。
3.根据权利要求1或2所述的激光退火设备，其特征在于，所述气体为氮气。
4.根据权利要求1所述的激光退火设备，其特征在于，所述喷管的数量为多个。
5.根据权利要求4所述的激光退火设备，其特征在于，多个所述喷管分别设置在所述退火窗口的相对的两侧，且位于所述退火窗口两侧的多个所述喷管交错设置。
6.根据权利要求1所述的激光退火设备，其特征在于，所述用于对工件进行退火的激光束为线状激光束。
7.根据权利要求1或6所述的激光退火设备，其特征在于，所述激光发射装置包括激光器和激光束转换单元，所述激光器用于发出激光束，所述激光束转换单元用以将所述激光器发出的激光束转换为线状激光束。
8.根据权利要求7所述的激光退火设备，其特征在于，所述激光器为氯化氙准分子激光器、氟化氪准分子激光器和氟化氩准分子激光器中的一种。
9.根据权利要求1所述的激光退火设备，其特征在于，所述激光退火设备还包括激光调节装置，所述激光调节装置能够将调节所述激光束的能量密度。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
