[实用新型]双向触发二极管芯片有效

专利信息
申请号: 201420290981.3 申请日: 2014-05-30
公开(公告)号: CN204088329U 公开(公告)日: 2015-01-07
发明(设计)人: 王英杰;徐敏杰;刘宪成;崔建 申请(专利权)人: 杭州士兰集成电路有限公司
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L21/329
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 郑玮
地址: 310018 浙江省杭州市杭州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 双向 触发 二极管 芯片
【权利要求书】:

1.一种双向触发二极管芯片,其特征在于,包括: 

形成于一衬底正面上的外延层; 

形成于所述衬底与外延层之间的埋层; 

形成于所述外延层中的基区、二极管掺杂区、电阻区; 

形成于所述基区中的发射区;以及 

贯穿所述外延层并延伸至衬底中的隔离槽。 

2.如权利要求1所述的双向触发二极管芯片,其特征在于,所述埋层、外延层、发射区的导电类型相同,所述衬底、隔离槽、基区、电阻区、发射区的导电类型相同,所述埋层、外延层、基区、发射区构成双极型晶体管,所述衬底、埋层构成第一二极管,所述二极管掺杂区、埋层、外延层构成第二二极管,所述衬底、隔离槽构成第一电阻,所述电阻区构成第二电阻。 

3.如权利要求2所述的双向触发二极管芯片,其特征在于,所述埋层、外延层、发射区的导电类型是N型,所述衬底、隔离槽、基区、电阻区、二极管掺杂区的导电类型是P型。 

4.如权利要求2所述的双向触发二极管芯片,其特征在于,还包括: 

形成于所述衬底背面的背面电极; 

覆盖所述外延层的绝缘层,所述绝缘层具有暴露所述发射区、二极管掺杂区以及隔离槽的开口;以及 

形成于所述衬底正面的正面电极,所述正面电极通过所述开口与所述发射区、二极管掺杂区以及隔离槽连接。 

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