[实用新型]一种连续快速生长石墨烯的气相沉积装置有效
| 申请号： | 201420304385.6 | 申请日： | 2014-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN203890440U | 公开（公告）日： | 2014-10-22 |
| 发明（设计）人： | 王姣霞;汪伟;刘兆平 | 申请（专利权）人： | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
| 主分类号： | C23C16/54 | 分类号： | C23C16/54;C23C16/26 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 魏晓波 |
| 地址： | 315201 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 连续 快速 生长 石墨 沉积 装置 | ||
1.一种连续快速生长石墨烯的气相沉积装置，包括炉体(5)和反应腔体(1)，其特征在于，还包括驱动装置；且所述反应腔体(1)的端部开设有进样口和出样口，所述驱动装置能够带动基体(4)由所述进样口进入所述反应腔体(1)，由所述出样口离开所述反应腔体(1)。
2.根据权利要求1所述的连续快速生长石墨烯的气相沉积装置，其特征在于，所述基体(4)在所述进样口和出样口两端均为成卷排列的卷材，所述驱动装置能够带动所述卷材旋转，使其连续地穿过所述反应腔体(1)。
3.根据权利要求2所述的连续快速生长石墨烯的气相沉积装置，其特征在于，所述进样口和所述出样口设置在所述反应腔体(1)的同一端，所述反应腔体(1)内通过支撑架(3)安装有旋转轴(2)，所述基体(4)由所述进样口进入所述反应腔体(1)经过所述旋转轴(2)的U型卷绕后，再由同一侧的所述出样口离开所述反应腔体(1)。
4.根据权利要求2所述的连续快速生长石墨烯的气相沉积装置，其特征在于，所述进样口和所述出样口设置在所述反应腔体(1)的同一端，所述反应腔体(1)内通过支撑架(3)安装有多个旋转轴(2)，所述基体(4)由所述进样口进入所述反应腔体(1)依次经过所述多个旋转轴(2)的S型卷绕后，再由同一侧的所述出样口离开所述反应腔体(1)。
5.根据权利要求1-4任意一项所述的连续快速生长石墨烯的气相沉积装置，其特征在于，所述反应腔体(1)的进样口和出样口处还设置有保温罩机构。
6.根据权利要求1所述的连续快速生长石墨烯的气相沉积装置，其特征在于，所述反应腔体(1)为采用石英、陶瓷或不锈钢材料制成的腔体。
7.根据权利要求1所述的连续快速生长石墨烯的气相沉积装置，其特征在于，所述反应腔体(1)的截面为圆形或方形。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
