[实用新型]一种匀场装置及磁共振设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及磁共振成像技术，特别涉及一种匀场装置以及使用该匀场装置的磁共振设备。

背景技术

现有磁共振成像系统中，利用磁体产生磁场，进而利用该磁场进行磁共振成像。具体而言，在磁共振系统中需要磁体在图像采集区域(FOV)中产生一个高度均匀的磁场从而进行磁共振成像。超导磁体通常为环形柱状结构，由于距离超导磁体中心远近不同等原因，不同区域的磁场强度通常是不同的，因此，需要采取一定的措施，来对不同区域的磁场均匀性进行校正，以便获得成像质量更好的磁共振图像。

现有技术中，通常采用被动匀场的方法使磁场具有较好的均匀性。图1为根据现有技术的超导磁体的梯度线圈的横截面示意图，如图1所示，被动匀场的方法包括，将具有铁磁性的铁片作为匀场片安装与拆卸于匀场条中，匀场条布置在设计好的位置上用于调整磁场。匀场条通常分布在径向方向上并插在梯度线圈200的匀场槽300中。

如图1所示，超导磁体的磁场发生装置包括至少一个匀场槽300，梯度线圈200和体线圈，其中，匀场槽300集成在梯度线圈200当中。当使用匀场条来调节超导磁体的磁场均匀性时，需将装载匀场片的匀场条插入梯度线圈200上设置的匀场槽300中从而对磁场的均匀性进行校正，其中，匀场槽300的长度方向平行于环形柱状的超导磁体的轴线；本领域技术人员应当理解可以围绕超导磁体的轴线根据需要设置一个或多个匀场槽300；在实际使用中，匀场槽300中放置匀场条，匀场条中放置匀场片，其中匀场片的数量和位置可以在高斯计或场强仪测量得出有关数据后通过计算得出。

现有技术中，超导磁体的匀场条通常是长方体并且插入梯度线圈200上设置的匀场槽300中，匀场条也可以是其他长条柱状结构。沿匀场槽300的长度方向，匀场条设有多个用于放置匀场片的单元格。当使用匀场条来调节超导磁体的磁场均匀性时，将匀场片置入匀场条的单元格中。

匀场过程，非常耗时。具体而言：在调节磁场均匀性时，首先，通过计算确定出为调节磁场均匀性匀场片应放入的匀场条以及所需匀场片的数量；然后，调节放入相应的匀场条中的匀场片的数量；最后，将相应的匀场条插入相应的通孔中。上述过程称为一次匀场迭代。按照这种方式处理一次后，如果磁场的均匀性仍不符合要求，那么可将插入匀场槽中的匀场条抽出，再次进行匀场迭代，甚至多次进行匀场迭代，直至磁场均匀性符合要求为止。在这个过程当中，昂贵的液体氦会有所损失。磁体在这个过程当中也可能发生改变，而且这也是一个耗时的过程。因此如何无需升场和降场即可安全完成匀场迭代是业界亟待解决的问题。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的主要目的在于提供一种匀场装置，利用该匀场装置，本领域技术人员无需进行降场/升场的操作即可快速简便安全地进行匀场从而改善并保持系统磁场的均匀性。

本实用新型的具体实施例提供一种匀场装置，所述匀场装置包括一个或多个两两首尾连接的匀场单元，所述匀场单元包括一上基片、一下基片以及一个或多个匀场片，所述匀场片封装在所述上基片和所述下基片之间。

优选地，所述匀场单元沿所述匀场装置的长度方向等间距分布。

优选地，多个所述匀场单元是一体成型的。

优选地，所述匀场单元首尾两端分别包括一第一连接件，两个所述第一连接件可拆卸的连接。

优选地，所述上基片和所述下基片是柔性的。

优选地，所述匀场装置还包括至少一个刚性或半刚性支撑件，所述支撑件沿所述匀场装置的长度方向设置。

优选地，所述匀场装置两端分别包括第二连接件，所述第二连接件可拆卸的与一牵引件连接。

优选地，所述第二连接件是通孔、拉环或锁扣。

本实用新型的具体实施例还提供一种磁共振成像系统，包括如上所述的匀场装置。

通过上述技术方案，当经过长时间使用后系统磁场发生变化时，本领域技术人员无需进行降场/升场的操作即可安全快速简便地通过调节所述匀场装置来保持并改善系统磁场的均匀性，并且，该装卸装置结构简单、易于实现且操作方便。因此，本领域技术人员可以进行多次匀场迭代来改进高磁场系统的均匀性，从而使其符合更加严格的要求；节约降场/升场所耗液氦从而降低成本；节约调节磁场均匀性稳定所需时间；上述技术方案可应用于高磁场强度系统，甚至3T超导磁体。

附图说明

下面将通过参照附图详细描述本实用新型的优选实施例，使本领域的普通技术人员更清楚本实用新型的上述及其它特征和优点，附图中：

图1为根据现有技术的超导磁体的梯度线圈的横截面示意图。