[实用新型]一种水冷紫外光线型面光源有效
申请号: | 201420307039.3 | 申请日: | 2014-06-11 |
公开(公告)号: | CN203880661U | 公开(公告)日: | 2014-10-15 |
发明(设计)人: | 蒋进 | 申请(专利权)人: | 江苏固立得精密光电有限公司 |
主分类号: | F21V29/00 | 分类号: | F21V29/00 |
代理公司: | 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 | 代理人: | 汤婷 |
地址: | 213022 江苏省常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 水冷 紫外光 线型 光源 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种水冷紫外光线型面光源。
背景技术
UV LED面光源是一种直接产生紫外光的半导体发光器件,是按照一定得比例集成发光波长为200nm至450nm的大功率LED芯片,形成峰值波为200nm至450nm波段中某个波长的光源。UV LED具有省电、光线自然、照射面积广、光照更强等特点。
目前UV LED面光源存在的问题主要包括:首先LED发光时会持续产生热量,现有的紫外光线型面光源虽然配置了散热模组和散热风扇来散热,但是如果LED发光的时间过长,产生的热量会持续增加,导致光衰变快,仍然会影响光源的使用寿命,造成材料的浪费和成本的升高。其次紫外光线型面光源主要应用的在是印刷、胶水等行业,油墨、胶水易雾化进入光源内部,影响风扇的散热,进而影响UV LED面光源的使用寿命。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种寿命长、成本低的水冷紫外光线型面光源,并且能够适合印刷、胶水等行业使用。
实现本实用新型目的的技术方案是:一种水冷紫外光线型面光源,包括壳体、水冷主座、水冷副座、铜基板、LED、光学柱镜和柱镜座;所述水冷主座固定在壳体的底部;所述水冷副座设置在壳体内,并与水冷主座的上端面密封连接;所述水冷副座的下端面设有水路槽,水路槽的两端部分别设有贯穿水冷副座的水路进水口和水路出水口;所述壳体的顶部分别设有壳体进水口和壳体出水口;所述水冷副座的水路进水口和水路出水口通过水管分别连通壳体的壳体进水口和壳体出水口;所述铜基板固定在水冷主座的下端面;所述LED固定在铜基板的下端面;所述柱镜座的边缘固定在水冷主座的底部;所述光学柱镜设置在LED与柱镜座之间。
所述水冷副座的下端面的水路槽呈U形。
所述铜基板的下端面固定有两排LED,每排LED的数量为二十一颗。
采用了上述技术方案,本实用新型具有以下的有益效果:(1)本实用新型在水冷副座的下端面设置水路槽,通过水流过水冷副座的水路槽来带走LED产生的热量,成本低,解决了LED光源长时间工作热量持续曾加,光衰变快,影响光源使用寿命的问题。
(2)本实用新型的水冷副座与水冷主座密封连接,水冷副座的水路进水口和水路出水口通过水管分别连通壳体的壳体进水口和壳体出水口,使油墨或胶水固化时形成的雾化完全影响不到水冷组件的散热,保证了印刷的质量,因此本实用新型适合安装在印刷或涂覆设备的喷头上使用。
(3)本实用新型的水冷副座的下端面的水路槽呈U形,不但延长了水路的长度,提高冷却效率,而且使水冷副座的水路进水口和水路出水口位于同一端,方便壳体内部管路的布置。
附图说明
为了使本实用新型的内容更容易被清楚地理解,下面根据具体实施例并结合附图,对本实用新型作进一步详细的说明,其中
图1为本实用新型的结构示意图。
图2为图1的A-A剖视图。
图3为图1的俯视图。
图4为本实用新型的水冷副座的结构示意图。
附图中的标号为:
壳体1、壳体进水口11、壳体出水口12、水冷主座2、水冷副座3、水路进水口31、水路出水口32、水路槽33、铜基板4、LED5、光学柱镜6、柱镜座7。
具体实施方式
(实施例1)
见图1至图4,本实施例的水冷紫外光线型面光源,包括壳体1、水冷主座2、水冷副座3、铜基板4、LED5、光学柱镜6和柱镜座7。
水冷主座2固定在壳体1的底部。水冷副座3设置在壳体1内,并与水冷主座2的上端面密封连接。水冷副座3的下端面设有U形的水路槽33,水路槽33的两端部分别设有贯穿水冷副座3的水路进水口31和水路出水口32。壳体1的顶部分别设有壳体进水口11和壳体出水口12。水冷副座3的水路进水口31和水路出水口32通过水管分别连通壳体1的壳体进水口11和壳体出水口12。铜基板4固定在水冷主座2的下端面。LED5固定在铜基板4的下端面。铜基板4的下端面固定有两排LED5,每排LED5的数量为二十一颗。柱镜座7的边缘固定在水冷主座2的底部。光学柱镜6设置在LED5与柱镜座7之间。
以上所述的具体实施例,对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本实用新型的具体实施例而已,并不用于限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
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