[实用新型]真空装置

权利要求书

1.一种真空装置，其特征在于，具有： 

真空室(102)，设置成在真空中处理基体(200)；以及 

至少一个通道(104)，设置成使基体(200)进入真空室(102)和/或从真空室(102)中出来，其中，该至少一个通道(104)具有至少一个元件(106)，该至少一个元件这样地可移动地布置和设置，即，至少一个通道(104)的通过开口(105)的尺寸(109)可改变，从而使基体(200)进入该元件(106)的不同打开位置。 

2.根据权利要求1所述的真空装置，其特征在于，其此外具有控制装置(112)，该控制装置设置成，取决于基体(200)的厚度而移动至少一个元件(106)。 

3.根据权利要求1所述的真空装置，其特征在于，至少一个元件(106)这样地设置，即，其将使基体(200)进入真空室(102)的第一通道(104a)与使基体(200)从真空室(102)出来的第二通道(104b)相互耦接，使得在第一通道(104a)与第二通道(104b)之间提供气体引导部。 

4.根据权利要求3所述的真空装置，其特征在于，至少一个元件(106)这样地相对于被运输通过真空室(102)的基体(200)布置，即，该至少一个元件(106)的至少一个面(106a)沿着基体表面在第一通道(104a)与第二通道(104b)之间延伸。 

5.根据权利要求3所述的真空装置，其特征在于，至少一个元件(106)这样地设置，即，第一通道(104a)的通过开口(105)的尺寸(109)和第二通道(104b)的通过开口(105)的尺寸(109)可同时借助于至少一个可移动的元件(106)而改变。 

6.根据权利要求1所述的真空装置，其特征在于，其此外具有运输系统(116)，用于运输基体(200)通过至少一个通道(104)。 

7.根据权利要求6所述的真空装置，其特征在于，运输系统(116)具有至少一个导气元件(118)，这样地布置和设置，即，该至少一个可移动的元件(106)和运输系统(116)的至少一个导气元件(118)形成气体引导部(105a)。 

8.根据权利要求1所述的真空装置，其特征在于，至少一个可移动的元件 (106)这样地相对于被运输通过真空室(102)的基体(200)布置，即，在该至少一个可移动的元件(106)与被运输通过真空室(102)的基体(200)之间设置间隙，其中，该间隙在垂直于基体表面的方向上具有在大致0.5cm至5cm的范围内的空间扩展。 

9.根据权利要求1所述的真空装置，其特征在于，其此外具有至少部分布置在真空室(102)内的调节装置(112)，其与至少一个元件(106)耦接，使得该至少一个元件(106)可运动。