[实用新型]一种LNG高压射流除杂冷却装置有效
申请号: | 201420312984.2 | 申请日: | 2014-06-12 |
公开(公告)号: | CN203928598U | 公开(公告)日: | 2014-11-05 |
发明(设计)人: | 汪联军 | 申请(专利权)人: | 重庆耐德能源装备集成有限公司 |
主分类号: | F25J3/08 | 分类号: | F25J3/08 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王宝筠 |
地址: | 401121 重庆*** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 lng 高压 射流 冷却 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及能源化工领域,尤其是涉及一种LNG高压射流除杂冷却装置。
背景技术
液化天然气(liquefied natural gas,LNG)是在高压射流下产生的,高压射流后产生的LNG产品中含有氢气、氦气和氮气等杂质。
目前,LNG产生及除杂的过程为:通过除杂冷却装置,采用原料天然气除去二氧化碳、水、汞后增压至20MP,再通过冷箱预冷至第一降低温度,其中第一降低温度可以为-35℃至-37℃,将原料天然气制冷至第一降低温度是通过氟利昂,即制冷机实现的,之后节流降温后产出第二降低温度的液态天然气,其中,第二降低温度可以为-131℃至-135℃,在产生第二降低温度的液态天然气的同时,将氢气、氦气、氮气等为第二降低温度的杂质排空。
现有技术中是使氢气、氦气、氮气等为第二降低温度的杂质通过复热器恢复到常温状态,再进行排空。
而通过复热器将低温杂质恢复到常温状态,这就造成了热量浪费的问题。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型提供一种LNG高压射流除杂冷却装置,以解决现有技术中将低温杂质恢复到常温状态,导致热量浪费的问题。其具体方案如下:
一种LNG高压射流除杂冷却装置,包括:
输出处于第二降低温度的杂质的第一分离器;
位于冷箱内,与所述第一分离器相连的,接收所述第一分离器输出的处于第二降低温度的杂质,并将输入的常温的原料天然气与处于第二降低温度的杂质进行热量交换的换热器。
进一步的,还包括:
位于冷箱内,与所述换热器同时作用的,对输入的常温的原料天然气进行降温处理至第一降低温度的第一制冷机。
进一步的,还包括:
位于冷箱内,与所述换热器相连的,对经过所述换热器热量交换的常温的原料天然气进行降温处理至第一降低温度的第二制冷机。
进一步的,还包括:
设置于连接所述第一分离器与换热器之间的通道的,控制所述第一分离器输入至换热器的处于第二降低温度的杂质的流量的阀门。
进一步的,所述第二降低温度为-135℃。
进一步的,所述第一降低温度为-35℃。
上述LNG高压射流除杂冷却装置带来的有益效果是:在本实用新型中,通过第一分离器输出处于第二降低温度的杂质,并将处于第二降低温度的杂质输入到位于冷箱内的换热器,换热器将处于第二降低温度的杂质与常温的原料天然气进行热量的交换,使常温的原料天然气温度降低,同时处于第二降低温度的杂质温度升高,减少了低温杂质排出时,复热器将低温杂质恢复到常温状态时的热量消耗。同时,也减少了冷箱内的常温的原料天然气温度降低所需要的功耗。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型公开的一种LNG高压射流除杂冷却装置的结构示意图;
图2为本实用新型公开的一种LNG高压射流除杂冷却装置的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型公开的一种LNG高压射流除杂冷却装置,其结构示意图如图1所示,包括:
一级换热器A1、冷箱A2、三级换热器A3、液气分离器A4、第二分离器A5、第一分离器A6。
其中,原料天然气通过一级换热器A1进入到冷箱A2,原料天然气为常温天然气,其内包含氢气、氦气和氮气等杂质,为了除去常温的原料天然气内的杂质,并使常温的原料天然气温度降低至第二降低温度的液态天然气,需要对常温的原料天然气进行降温除杂处理。
常温的原料天然气脱去二氧化碳、水、汞后,增压至20MP,之后进入到冷箱A2,在冷箱A2内降低一次温度,之后通过三级换热器A3、液气分离器A4进入第二分离器A5,经第二分离器A5进入到第一分离器A6,在第一分离器A6内,原料天然气降温至第二降低温度,并且实现与杂质的分离,分离的杂质也处于第二降低温度状态,而第二降低温度处于低温状态。
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