[实用新型]一种光流体微纳器件动态加工装置有效
申请号: | 201420316152.8 | 申请日: | 2014-06-09 |
公开(公告)号: | CN203941381U | 公开(公告)日: | 2014-11-12 |
发明(设计)人: | 郁敏;南学芳;杨杰;高秀敏 | 申请(专利权)人: | 高秀敏 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B27/09 |
代理公司: | 无 | 代理人: | 无 |
地址: | 200433 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 流体 器件 动态 加工 装置 | ||
1.一种光流体微纳器件动态加工装置,包括光源,在所述光源出射光束行进方向上依次设置有光束整形器件、聚焦物镜以及光流体模块,其特征在于,所述的光束整形器件和所述的聚焦物镜之间还设有用于调整所述光源出射光束光斑形状的空间光调制器,所述空间光调制器还连接有空间光调制控制器。
2.根据权利要求1所述的一种光流体微纳器件动态加工装置,其特征在于,所述的光束整形器件为扩束准直镜。
3.根据权利要求1所述的一种光流体微纳器件动态加工装置,其特征在于,所述的光流体模块为两端开口结构,包括流道边界、位于所述光流体模块两端的流体入口和流体出口、位于流道边界内的流体光刻胶。
4.根据权利要求1至3任意一项所述的一种光流体微纳器件动态加工装置,其特征在于,所述的空间光调制器与所述的聚焦物镜之间还设有与光束夹角成45°的分光镜,所述光源出射光束经所述光束整形器件、所述空间光调制器后投射到所述分光镜,并经所述分光镜表面反射后投射到所述聚焦物镜,最后聚焦到所述光流体模块;在所述聚焦物镜、所述分光镜连线方向上依次设有滤光镜、成像镜头和光电成像部件。
5.根据权利要求4所述的一种光流体微纳器件动态加工装置,其特征在于,所述的分光镜在光束反射表面的背面设有针对可见光的减反增透膜。
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