[实用新型]双工位卧式加工中心有效
申请号: | 201420316589.1 | 申请日: | 2014-06-13 |
公开(公告)号: | CN203863427U | 公开(公告)日: | 2014-10-08 |
发明(设计)人: | 王俊;陈宏;张维芝 | 申请(专利权)人: | 苏州弘远机械制造有限公司 |
主分类号: | B23Q11/00 | 分类号: | B23Q11/00;B23Q37/00 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 项丽 |
地址: | 215562 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 双工 卧式 加工 中心 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种加工中心,具体涉及一种双工位卧式加工中心。
背景技术
卧式加工中心是最常用的数控机床之一,其技术含量高,是数控机床产业发展水平的标志性产品之一。卧式加工中心主要通过数控系统、伺服驱动装置控制机床基本运动,其结构的主要特征是主轴水平设置,通常由3-5个运动部件(主轴箱、工作台、立柱或主轴套等)组成。在卧式加工中心上设置自动交换工作台,构成柔性制造单元(FMC),实现工件自动交换,即在加工的同时可进行另一个工件装卸。加工工件经一次装夹后,完成多工序自动加工,自动选择及更换刀具,自动改变机床主轴转速和进给速度,自动实现刀具与工件的运动轨迹变化以及自动实现其它辅助功能,它适用于零件形状比较复杂和精度要求高的产品的批量生产,特别是箱体和复杂结构件的加工,在汽车、航空航天、船舶和发电等行业被大量用于复杂零件的精密和高效加工。
由于卧式加工中心一般用来制作较复杂的零件,其产生的铁屑较多,如果不及时清除会堆积在加工中心中,累积到一定程度后会影响加工中心的加工精度。
发明内容
本实用新型目的是为了克服现有技术的不足而提供一种能够排屑的双工位卧式加工中心。
为达到上述目的,本实用新型采用的技术方案是:一种双工位卧式加工中心,包括围设于四周的围栏、对称固定在围栏内的两个机床导轨、分别安装在机床导轨上的底盘、分别固定在底盘上的数控车床,它还包括围设于底盘顶面四周的挡板、设于导轨中间的传送带,所述挡板与底盘间开设有与所述传送带位置相对应的通孔。
优化地,所述通孔上方安装有水箱。
优化地,它还包括设置于传送带端部的铁屑收集装置。
进一步地,所述的铁屑收集装置包括箱体、开口朝上设在箱体内的空腔、放置于空腔内且带有把手的滤网、与空腔相连通且设置在空腔上部的上出水管、与空腔相连通且设置在空腔下部的下出水管。
由于上述技术方案运用,本实用新型与现有技术相比具有下列优点:本实用新型双工位卧式加工中心,一方面设有两个机床导轨可同时作业,提高了工作效率;另一方面在底盘顶面四周围设挡板并设置与传送带位置相对应的通孔,使得机床工作产生的铁屑通过通孔聚到传送带上实现铁屑的及时清除。
附图说明
附图1为本实用新型双工位卧式加工中心的结构示意图;
附图2为本实用新型双工位卧式加工中心的铁屑收集装置结构示意图;
其中,1、围栏;2、机床导轨;3、底盘;4、数控车床;5、挡板;6、水箱;7、通孔;8、传送带;9、铁屑收集装置;91、箱体;92、空腔;93、滤网;94、把手;95、上出水管;96、下出水管。
具体实施方式
下面结合附图所示的实施例对本实用新型作进一步描述。
如图1所示的双工位卧式加工中心,主要包括围栏1、机床导轨2、数控车床4和送带8。
其中,围栏1围拢形成容置空间,用于安置车床的零部件;机床导轨2有两个,分别固定在围栏1内;底盘3也有两个,分别对应安装在机床导轨2上,它的安装位置可以根据实际加工的需要,进行调节;数控车床4也有两个,分别对应固定在底盘3上,用于对待加工工件进行加工;挡板5围设于在底盘3顶面的四周,用于阻挡加工产生的铁屑飞溅,从而将铁屑的行程限制在底盘3顶面的范围内;通孔7设在挡板5与底盘3之间,能够让聚集在底盘3顶面的铁屑通过;传送带8设于导轨2的中间,其位置与通孔7的位置相对应,用于接收通过通孔7掉落的铁屑并将其转移。
在本实施例中,通孔7上安装有水箱6,可以通过定时排水达到冲刷底盘3顶面的目的,从而将铁屑冲刷至传送带8上。传送带8的端部设有铁屑收集装置9,如图2所示,铁屑收集装置9主要包括箱体91、滤网93、上出水管95和下出水管96。箱体91上开设有开口朝上的空腔92;滤网93放置在空腔92内,用于过滤传送带8输送的铁屑,而且滤网93带有把手94,方便及时将其清空;上出水管95设置在空腔92的上部,且与空腔92相连通,用于排除空腔92内的机油;下出水管96设置在空腔92的下部,且与空腔92相连通,用于排除空腔92内的积累的水分。
上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施,并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
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