[实用新型]一种H型金属化膜

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种电容器用金属化膜，尤其涉及一种H型金属化膜，属于电子元器件技术领域。

背景技术

几年来，随着信息产业及现代电子装备、仪器仪表向着小型化、轻量化、低成本、高性能等方向发展，金属化薄膜电容器以其耐压跨度大、覆盖范围广、自愈性能好、适应领域宽等显著特点而得到了广泛的重视和应用。金属化薄膜电容器作为基础电子元器件，市场的需求逐年增大，其型号、规格、品种越来越多，使用的领域不断拓宽，产品的技术档次，制造中的工艺技术和生产设备的技术含量也不断在提高。

随着电子技术不断向高精尖方向发展，对电容器的工艺控制及质量要求越来越高。金属化薄膜是由塑料薄膜上真空蒸镀上一层很薄的金属构成，该层金属被用来作为电极。现有的普通金属化膜上设置隔离带，防止金属化膜自愈过程中把与自愈点上下相邻的多层介质灼伤击穿，造成电容器短路失效。但是实际上，隔离带并不一定能很好控制局部电流的大小，最终还是导致金属化膜被灼伤击穿，影响实际使用。

实用新型内容

本实用新型正是针对现有技术存在的不足，提供一种H型金属化膜。

为解决上述问题，本实用新型所采取的技术方案如下：

一种H型金属化膜，包括：基膜和金属蒸镀膜，金属蒸镀膜仅设置在基膜一侧的表面上，所述金属蒸镀膜包括：加厚区和金属区，并在基膜上未被金属蒸镀膜覆盖的区域形成屏带，在金属区内设置有H型隔离带，所述隔离带包括：大隔离区和小隔离区，大隔离区和小隔离区组合在一起形成“H”形，在加厚区和金属区宽度方向上设置有三个H型隔离带，且金属区内仅设置一个小隔离区，在邻接屏带处仅设置一个大隔离区。

作为上述技术方案的改进，所述大隔离区的高度T与小隔离区的高度t之间的几何关系为：T=10t。

作为上述技术方案的改进，从屏带开始计算各个隔离带之间间距分别为：A、B和C，三个H型隔离带的总高度为L，且L=3A=3B=3C。

本实用新型与现有技术相比较，本实用新型的实施效果如下：

本实用新型所述金属化膜，在金属区内部设定H型隔离带，并通过限定内部隔离带形状与尺寸大小，有效提高金属化膜的自愈能力，降低局部电流密度，防止局部发生灼烧或击穿现象，提高电容器的安全性和使用寿命，满足实际使用要求，实施效果好。

附图说明

图1为本实用新型所述H型金属化膜结构示意图；

图2为本实用新型所述金属化膜中隔离条结构示意图。

具体实施方式

下面将结合具体的实施例来说明本实用新型的内容。

如图1所示，为本实用新型所述H型金属化膜结构示意图，图2为其隔离条结构示意图，所述金属化膜包括：基膜和金属蒸镀膜，金属蒸镀膜仅设置在基膜一侧的表面上。所述金属蒸镀膜包括：加厚区10和金属区20，在基膜上未被金属蒸镀膜覆盖的区域形成屏带30。金属区20为在基膜上采用蒸镀工艺形成的锌铝复合层，加厚区10的锌铝复合层厚度比金属区20的厚度厚。

在金属区20内设置有H型隔离带40，所述隔离带40包括较大的大隔离区41和较小的小隔离区42，大隔离区41和小隔离区42组合在一起形成“H”形，大隔离区41的高度为T，小隔离区42的高度为t，且T=10t。

本实用新型所述H型金属化膜，在加厚区10和金属区20宽度方向上设置有三个H型隔离带40，且金属区20内仅设置一个小隔离区42，在邻接屏带30处仅设置一个大隔离区41，从屏带30开始计算各个隔离带之间间距分别为：A、B和C。三个H型隔离带40的总高度为L，且L=3A=3B=3C。

本实用新型所述H型金属化膜，通过限定内部隔离带形状与尺寸大小，有效提高金属化膜的自愈能力，降低局部电流密度，防止局部发生灼烧或击穿现象，提高电容器的安全性。本实用新型所述H型金属化膜，正是因为其为H型结构，卷制后形成若干个内串式“微型电容”，当某一“微型电容”被击穿后，其容量不会迅速下降，仅损失原有的一半，仍然可正常工作，不会影响正常使用。