[实用新型]触控感应单元及触控装置

权利要求书

1.一种触控感应单元，其特征在于，该触控感应单元包含：

一基材；及

多个触控电极，设于该基材上，用以产生触控感应讯号，所述触控电极各包括

一绝缘层，具绝缘性及透光性，及

多个纳米导电结构，设置于该绝缘层中，且各具有一金属主体，各该金属主体具有粗糙表面且彼此形成电连接。

2.根据权利要求1所述的触控感应单元，其特征在于：各该金属主体的表面粗糙度介于2纳米至20纳米之间。

3.根据权利要求1所述的触控感应单元，其特征在于：各该纳米导电结构的金属主体为纳米银线或纳米铜线。

4.根据权利要求1所述的触控感应单元，其特征在于：各该金属主体的粗糙表面是由电子束蚀刻技术、离子束蚀刻技术或化学蚀刻技术加工而成。

5.根据权利要求1所述的触控感应单元，其特征在于：该触控感应单元还包含一抗反射结构，该抗反射结构具有低反光性，并夹设于该基材与所述触控电极之间。

6.根据权利要求5所述的触控感应单元，其特征在于：该抗反射结构包括相互叠置的一第一光学层及一第二光学层，该第一光学层夹设于该基材与该第二光学层之间，且该第一光学层的折射率大于该第二光学层的折射率。

7.根据权利要求1所述的触控感应单元，其特征在于：所述纳米导电结构还分别包括一吸光构造，所述吸光构造具低反光性，并分别设置于所述金属主体的表面。

8.根据权利要求1或7所述的触控感应单元，其特征在于：各该金属主体为扭曲弯折的线状构造。

9.根据权利要求1所述的触控感应单元，其特征在于：所述触控电极为间隔地设置于该基材上。

10.根据权利要求1所述的触控感应单元，其特征在于：所述触控电极的绝缘层彼此相连，且所述触控电极的纳米导电结构相互电性绝缘。

11.一种触控感应单元，其特征在于，该触控感应单元包含：

一基材；及

多个触控电极，设于该基材上，用以产生触控感应讯号，所述触控电极各包括

一绝缘层，具绝缘性及透光性，及

多个纳米导电结构，设置于该绝缘层中且彼此形成电连接，并分别具有

一金属主体，及

一吸光构造，具低反光性，设置于该金属主体的表面。

12.根据权利要求11所述的触控感应单元，其特征在于：各该纳米导电结构的金属主体为纳米银线或纳米铜线。

13.根据权利要求11所述的触控感应单元，其特征在于：该吸光构造为包覆该金属主体表面的抗反射层。

14.根据权利要求11或13所述的触控感应单元，其特征在于：该吸光构造的材质为色料、硫化银或氧化铜。

15.根据权利要求13所述的触控感应单元，其特征在于：该吸光构造是通过色料染色技术或化学合成技术，在该金属主体的表面制作而成。

16.根据权利要求11所述的触控感应单元，其特征在于：该吸光构造为附着在该金属主体表面的多个抗反射颗粒。

17.根据权利要求11或16所述的触控感应单元，其特征在于：该吸光构造的材质为导电碳黑。

18.根据权利要求11所述的触控感应单元，其特征在于：该触控感应单元还包含一抗反射结构，该抗反射结构具有低反光性，并夹设于该基材与所述触控电极之间。

19.根据权利要求18所述的触控感应单元，其特征在于：该抗反射结构包括相互叠置的一第一光学层及一第二光学层，该第一光学层夹设于该基材与该第二光学层之间，且该第一光学层的折射率大于该第二光学层的折射率。

20.根据权利要求11所述的触控感应单元，其特征在于：各该金属主体为扭曲弯折的线状构造。

21.根据权利要求11所述的触控感应单元，其特征在于：所述触控电极为间隔地设置于该基材上。

22.根据权利要求11所述的触控感应单元，其特征在于：所述触控电极的绝缘层彼此相连，且所述触控电极的纳米导电结构相互电性绝缘。