[实用新型]一种改进的曝光机靶标识别对准装置

说明书

技术领域

   本实用新型涉及光电显示行业中的机械设备领域，具体涉及一种改进的曝光机靶标识别对准装置。

背景技术

    在触摸屏的生产过程中，基板镀上ITO层和感光胶后与MASK板对齐，然后进行曝光处理，摄像机透过MASK板利用同轴光源射出的光线照亮基板表面的MAKER标识，从而稳定捕捉基板上的MAKER标识，同轴光源通过折射机构将光线导入至CCD的物镜里。同轴光源为普通白光，并且此时同轴光源只存在反射光，所以此种状态捕捉的MAKER标识只能是有颜色、不透明的标识，而由于基板、ITO层和感光胶均为透明材质，基板上的MAKER标识也为透明的标识，因此无法识别基板上的MAKER标识。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种结构简单的曝光机标靶识别对准装置，解决现有技术中摄像机无法识别透明靶标的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是：一种改进的曝光机靶标识别对准装置，包括对准平台和CCD摄像机，其特征在于：所述对准平台设有与基板透明靶标位置相对应的透光孔，所述对准平台一侧与透光孔位置相对应处设有CCD摄像机，所述对准平台另一侧设有斜射光源；所述CCD摄像机镜头前端设有同轴光源；所述同轴光源照射方向垂直于对准平台，所述斜射光源照射方向与对准平台倾斜。

作为优选，所述同轴光源为单色光。

作为优选，所述同轴光源为蓝光或绿光。

作为优选，所述斜射光源照射方向与对准平台倾斜角度为30°-60°。

作为优选，所述斜射光源与同轴光源为颜色不同的单色光。

作为优选，所述对准平台为内真空，底部设有真空泵，所述对准平台台面设有若干条用于吸附基板的真空吸附槽。

作为优选，所述对准平台设有位置调整装置，包括平台基座、与平台基座螺纹配合的调节丝杆和驱动调节丝杆转动的电机，所述调节丝杆的前端设有用于连接对准平台的固定座，所述电机设置在调节丝杆的末端。

本实用新型的有益效果：本实用新型结构简单，通过设置两个不同颜色的光源，以不同的角度照射透明靶标，使得靶标与基板产生不同的色差及反射光， CCD摄像机能够有效地识别透明靶标，并通过位置调整装置来调整对准平台上基板的位置，使基板与MASK板对齐。

附图说明

图1为本实用新型实施例1的结构示意图；

图2为本实用新型实施例1中对准平台的结构示意图；

图中，1-对准平台；2-基板；3-MASK板；4-同轴光源；5-CCD摄像机；6-斜射光源；7-真空泵；8-位置调整装置；81-平台基座；82-调节丝杆；83-电机；84-固定座；a-倾斜角度。

具体实施方式

以下所述仅是本实用新型的较佳实施方式，故凡依本实用新型专利申请范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰，均包括于本实用新型专利申请范围内。

实施例1：根据图1和图2所示，一种改进的曝光机靶标识别对准装置，包括对准平台1和CCD摄像机5，对准平台1设有位置调整装置8，包括平台基座81、与平台基座81螺纹配合的调节丝杆82和驱动调节丝杆82转动的电机83，调节丝杆82的前端设有用于连接对准平台1的固定座84，电机83设置在调节丝杆的末端。对准平台1底部设有真空泵7，台面设有若干条真空吸附槽12，基板2通过真空吸附槽12吸附在对准平台1上，并通过位置调整装置8使基板2贴近MASK板3。基板2上有多个透明靶标21，对准平台1与基板2透明靶标21位置相对应处设有透光孔11，透明靶标21位于透光孔11内，对准平台1设有基板2的一侧设有CCD摄像机5, CCD摄像机5设置在控制装置上，能够随时调整CCD摄像机5的位置，CCD摄像机5镜头前端设有同轴光源4，此同轴光源4为蓝光，照射方向垂直于对准平台1，使得照射透明靶标21的光全部反射到CCD摄像机5的镜头内；对准平台1另一侧设有斜射光源6，此斜射光源6为黄光，照射方向与对准平台1倾斜，倾斜角度a为30°，由于两种不同颜色的光源，以不同的角度照射透明靶标21，使得透明靶标21与基板2产生不同的色差及反射光， CCD摄像机5能够有效地识别透明靶标21，观察透明靶标21是否与MASK板3的标记对齐，并通过控制系统控制位置调整装置8来调整对准平台1上基板2的位置，使基板2与MASK板3对齐。

实施例2：与上述实施例不同之处在于，同轴光源4为绿光，斜射光源6为黄光，斜射光源6照射方向与对准平台倾斜，倾斜角度a为60°