[实用新型]生长在W衬底上的InGaN/GaN多量子阱有效
申请号: | 201420369200.X | 申请日: | 2014-07-03 |
公开(公告)号: | CN204067413U | 公开(公告)日: | 2014-12-31 |
发明(设计)人: | 李国强;王文樑;刘作莲;杨为家;林云昊;周仕忠;钱慧荣 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学 |
主分类号: | H01L33/02 | 分类号: | H01L33/02;H01L33/06;H01L33/12;H01L33/00 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 陈文姬 |
地址: | 510640 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 生长 衬底 ingan gan 多量 | ||
技术领域
本实用新型涉及nGaN/GaN多量子阱,特别涉及一种生长在W衬底上的InGaN/GaN多量子阱。
背景技术
发光二极管(LED)作为一种新型固体照明光源和绿色光源,具有体积小、耗电量低、环保、使用寿命长、高亮度、低热量以及多彩等突出特点,在室外照明、商业照明以及装饰工程等领域都具有广泛的应用。当前,在全球气候变暖问题日趋严峻的背景下,节约能源、减少温室气体排放成为全球共同面对的重要问题。以低能耗、低污染、低排放为基础的低碳经济,将成为经济发展的重要方向。在照明领域,LED发光产品的应用正吸引着世人的目光,LED作为一种新型的绿色光源产品,必然是未来发展的趋势,二十一世纪将是以LED为代表的新型照明光源的时代。但是现阶段LED的应用成本较高,发光效率较低,这些因素都会大大限制LED向高效节能环保的方向发展。
III族氮化物GaN在电学、光学以及声学上具有极其优异的性质,近几年受到广泛关注。GaN是直接带隙材料,且声波传输速度快,化学和热稳定性好,热导率高,热膨胀系数低,击穿介电强度高,是制造高效的LED器件的理想材料。目前,GaN基LED的发光效率现在已经达到28%并且还在进一步的增长,该数值远远高于目前通常使用的白炽灯(约为2%)或荧光灯(约为10%)等照明方式的发光效率。数据统计表明,我国目前的照明用电每年在4100亿度以上,超过英国全国一年的用电量。如果用LED取代全部白炽灯或部分取代荧光灯,可节省接近一半的照明用电,超过三峡工程全年的发电量。因照明而产生的温室气体排放也会因此而大大降低。另外,与荧光灯相比,GaN基LED不含有毒的汞元素,且使用寿命约为此类照明工具的100倍。
LED要真正实现大规模广泛应用,需要进一步提高LED芯片的发光效率。虽然LED的发光效率已经超过日光灯和白炽灯,但是商业化LED发光效率还是低于钠灯(150lm/W),单位流明/瓦的价格偏高。目前,LED芯片的发光效率不够高,一个主要原因是由于其蓝宝石衬底造成的。由于蓝宝石与GaN的晶格失配高达17%,导致外延GaN薄膜过程中形成很高的位错密度,从而降低了材料的载流子迁移率,缩短了载流子寿命,进而影响了GaN基器件的性能。其次,由于室温下蓝宝石热膨胀系数(6.63×10-6/K)较GaN的热膨胀系数(5.6×10-6/K)大,两者间的热失配度约为-18.4%,当外延层生长结束后,器件从外延生长的高温冷却至室温过程会产生很大的压应力,容易导致薄膜和衬底的龟裂。再次,由于蓝宝石的热导率低(100℃时为0.25W/cmK),很难将芯片内产生的热量及时排出,导致热量积累,使器件的内量子效率降低,最终影响器件的性能。此外,由于蓝宝石是绝缘体,不能制作垂直结构半导体器件。因此电流在器件中存在横向流动,导致电流分布不均匀,产生较多热量,很大程度上影响了GaN基LED器件的电学和光学性质。
因此迫切需要寻找一种热导率高、可以快速地将LED节区的热量传递出来的材料作为衬底。而金属W作为外延氮化物的衬底材料,具有三大其独特的优势。第一,金属W有很高的热导率,W的热导率为1.74W/cmK,可以将LED芯片内产生的热量及时的传导出,以降低器件的节区温度,一方面提高器件的内量子效率,另一方面有助于解决器件散热问题。第二,金属W可以作为生长GaN基垂直结构的LED器件的衬底材料,可直接在衬底上镀阴极材料,P-GaN上镀阳极材料,使得电流几乎全部垂直流过GaN-基的外延层,因而电阻下降,没有电流拥挤,电流分布均匀,电流产生的热量减小,对器件的散热有利;另外,可以将阴极材料直接镀在金属衬底上,不需要通过腐蚀P-GaN层和有源层将电极连在N-GaN层,这样充分利用了有源层的材料。第三,金属W衬底材料相对其他衬底,价格更便宜,可以极大地降低器件的制造成本。正因为上述诸多优势,金属衬底现已被尝试用作III族氮化物外延生长的衬底材料。
但是金属W衬底在高温下化学性质不稳定,当外延温度高于600℃的时候,外延氮化物会与金属衬底之间发生界面反应,严重影响了外延薄膜生长的质量。III族氮化物外延生长的先驱研究者、著名科学家Akasaki等人就曾尝试应用传统的MOCVD或者MBE技术直接在化学性质多变的衬底材料上外延生长氮化物,结果发现薄膜在高温下外延相当困难。
实用新型内容
为了克服现有技术的上述缺点与不足,本实用新型的目的在于提供一种生长在W衬底上的InGaN/GaN多量子阱,缺陷密度低、结晶质量好,光电性能好。
本实用新型的目的通过以下技术方案实现:
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