[实用新型]一种光学电力打印机有效
申请号: | 201420372135.6 | 申请日: | 2014-07-08 |
公开(公告)号: | CN203920041U | 公开(公告)日: | 2014-11-05 |
发明(设计)人: | 杨亚南;王志超;刘逸韬;赵艳;张贝贝;顾奕;李磊 | 申请(专利权)人: | 河海大学常州校区 |
主分类号: | B41J2/435 | 分类号: | B41J2/435;B41J29/377 |
代理公司: | 常州市科谊专利代理事务所 32225 | 代理人: | 袁兴隆 |
地址: | 213022 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光学 电力 打印机 | ||
技术领域
本实用新型涉及打标机械领域,具体涉及一种光学电力打印机。
背景技术
打印机(Printer) 是计算机的输出设备之一,用于将计算机处理结果打印在相关介质上。衡量打印机好坏的指标有三项:打印分辨率,打印速度和噪声。 打印机的种类很多,按打印元件对纸是否有击打动作,分击打式打印机与非击打式打印机。按打印字符结构,分全形字打印机和点阵字符打印机,申请号为CN200520087458.1的一种实用新型,它包括打印机主体,打印机主体内设置打印头组件,打印头组件通过上支架固定在打印机主体内,上支架与打印机主体活动联接,打印头组件与上支架卡接。从而既能使之结构简单、易于拆装、便于维修,又能保证打印头的稳定,但仍无法解决打印机中加热气体的冷却不充分导致的输出激光不稳定问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种光学电力打印机,以解决现有技术中导致的上述多项缺陷。
一种光学电力打印机,包括壳体,所述壳体内设有放电端,所述放电电极旁设有光学谐振腔,所述光学谐振腔连接有图形输出镜,所述壳体一端连接有光电控制器,所述壳体另一端依次连接有焦透镜与打印件,所述放电端下方设有横流风机,所述横流风机旁设有热交换器,所述热交换器连接有置于壳体外的制冷压缩机。
作为进一步改进,所述壳体连接有真空抽气泵。
作为进一步改进,所述光学谐振腔的一端连接有全反镜。
作为进一步改进,所述真空抽气泵设有压力表。
作为进一步改进,所述光学谐振腔长度为300-400mm,直径为40-60mm。
本实用新型的优点在于:放电端下方设有横流风机及热交换器,热交换器连接有置于壳体外的制冷压缩机,横流风机可向放电电极横向输送冷风热交换器与制冷压缩机相连,可将壳体内加热气体充分制冷,提高激光的稳定性,使得印制图案更精细,精度更高;壳体连接有真空抽气泵,有利于壳体内气体循环流动冷却,并防止漏气,所述真空抽气泵设有可反映壳体内真空度的压力表,便于检测打标机使用后壳体内气体是否完全抽出及是否漏气,防止了气体老化及壳体漏气,光学谐振腔的一端连接有全反镜,能使入射光发生全反射,保证图形输出的完整性。
附图说明
图1为本实用新型的主视图。
图2为本实用新型的左视图。
其中:1-壳体,2-放电端,3-光学谐振腔,4-全反镜,5-图形输出镜,6-光电控制器,7-焦透镜,8-打印件,9-真空抽气泵,10-横流风机,11-热交换器,12-制冷压缩机,13-压力表。
具体实施方式
为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本实用新型。
如图1和图2所示,一种光学电力打印机,包括壳体1,壳体1内设有放电端2,放电端2旁设有光学谐振腔3,光学谐振腔3连接有图形输出镜5,壳体1一端连接有光电控制器6,壳体1另一端依次连接有焦透镜7与打印件8,放电端2下方设有横流风机10,横流风机10旁设有热交换器11,热交换器11连接有置于壳体外的制冷压缩机12, 放电端下方设有横流风机10及热交换器11,热交换器11连接有置于壳体1外的制冷压缩机12,横流风机10可向放电电极横向输送冷风热交换器11与制冷压缩机12相连,可将壳体1内加热气体充分制冷,提高激光的稳定性,使得印制图案更精细,精度更高.
此外,壳体1连接有真空抽气泵9,有利于壳体1内气体循环流动冷却,并防止漏气,真空抽气泵9设有可反映壳体1内真空度的压力表13,便于检测打标机使用后壳体1内气体是否完全抽出及是否漏气,防止了气体老化及壳体1漏气。
值得注意的是,光学谐振腔3的一端连接有全反镜4,能使入射光发生全反射,保证图形输出的完整性,光学谐振腔3长度为300-400mm,直径为40-60mm。
基于上述,放电端下方设有横流风机10及热交换器11,热交换器11连接有置于壳体1外的制冷压缩机12,横流风机10可向放电电极横向输送冷风,热交换器11与制冷压缩机12相连,可将壳体1内加热气体充分制冷,提高激光的稳定性,使得印制图案更精细,精度更高。
以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书及附图内容所做的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他向光的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
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