[实用新型]一种温度控制曝光机有效
申请号: | 201420373074.5 | 申请日: | 2014-07-07 |
公开(公告)号: | CN203941383U | 公开(公告)日: | 2014-11-12 |
发明(设计)人: | 王满根 | 申请(专利权)人: | 宁波东盛集成电路元件有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 杜军 |
地址: | 315806 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 温度 控制 曝光 | ||
技术领域
本实用新型属于加工设备技术领域,具体涉及一种金属蚀刻片加工过程中的温度控制曝光机。
背景技术
金属蚀刻片是将金属片材经化学浸湿后得到的带有预定图文的金属结构,其被广泛的应用于集成电路领域以及用做外观装饰件。
现有的金属蚀刻片加工方法,一般是通过在金属片材上滚涂光胶,随后通过带有预设图案的光罩进行曝光使金属片材上留下图案化的光胶膜,随后通过化学浸蚀,将金属片材上没有覆盖光胶膜的部分腐蚀,留下的部分则形成金属蚀刻片。
曝光过程的控制直接关系到最终获得金属蚀刻片的图纹精度,现有技术进行曝光时由于发光部件的发光强度为事先预设,当发光部件老化,或者曝光区域与发光部件之间的距离发生不可控制的变化时,如因机件磨损出现的位移,则会导致曝光质量无法控制,可能造成最终产品的缺陷。
同时,由于曝光过程中光线照射以及机械部件运转会造成曝光区域温度升高,过高的温度会使金属片材以及其上的光胶膜产生热膨胀效应,由于金属片材和光胶膜的热膨胀系数并不相同,从而可能造成光胶膜产生应力,并在某些特定的环境中造成光胶膜变形或者脱落,影响最终产品的良率。
发明内容
针对现有的金属蚀刻片曝光技术存在的上述问题,本实用新型提供的技术方案的主要目的是:提供一种可调节曝光区域温度的温度控制曝光机。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下的技术方案:
一种温度控制曝光机,其中,包括:
曝光平台,用以放置待曝光金属片材;
发光部件,通过支撑结构设置于所述曝光平台上方;
复数个光强传感器,均布于所述曝光平台上;
控制器,分别连接所述光强传感器及所述发光部件,用以根据所述光强传感器的感应结果控制所述发光部件的发光强度;
温度传感器,设置于曝光平台上,并与所述控制器连接;
冷却装置,匹配于所述曝光平台,并与所述控制器连接。
本实用新型的另一方面,所述光强传感器的布设于待曝光金属片材放置范围内,所述金属片材上预制通孔使所述光强传感器的传感部露出。
本实用新型的另一方面,还包括传送装置,所述传送装置连接于所述曝光平台上,所述待曝光金属片材设置于所述传送装置上。
本实用新型的另一方面,所述传送装置包括复数个被连续传送的框架,每片待曝光金属片材设置于所述框架内。
本实用新型的另一方面,包括一箱体,所述曝光平台及所述发光部件设置于所述箱体内,所述传送装置通过所述箱体上的一第一开口由所述箱体外将所述框架传送入所述箱体内,并通过所述箱体上的一第二开口由所述箱体内传送出所述箱体外。
本实用新型的另一方面,所述第一开口及所述第二开口处分别设置有可升降的阻隔板。
本实用新型的另一方面,所述冷却装置为风扇。
通过对本实用新型技术方案的实施,可以获得以下技术效果:
1,可根据待曝光金属片材的光环境调整发光部件的发光强度;
2,光强传感器的感光部通过待曝光金属片材上的预制通孔进行感应,获得的感应结果更精确;
3,当温度过高时冷却装置工作,对曝光区域进行降温,保持曝光区域处于合理的温度。
附图说明
图1为本实用新型的温度控制曝光机的结构示意图;
图2为本实用新型的温度控制曝光机的光强传感器组的分布结构示意图;
图3为本实用新型的曝光机的装置连接结构示意图。
具体实施方式
以下通过具体的实施例对本实用新型的技术方案进行说明,在与本实用新型的实用新型目的无冲突的前提下,下文中提到的实施例以及实施例中的技术特征可以相互组合。
如图1-3所示,本实用新型提供一种温度控制曝光机,其中,包括:
一种温度控制曝光机,其中,包括:
曝光平台1,用以放置待曝光金属片材0;
发光部件2,通过支撑结构3设置于曝光平台1上方;
复数个光强传感器4,均布于曝光平台1上;
控制器5,分别连接光强传感器4及发光部件2,用以根据光强传感器4的感应结果控制发光部件2的发光强度;
温度传感器51,设置于曝光平台1上,并与控制器5连接;
冷却装置52,匹配于曝光平台1,并与控制器5连接。
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