[实用新型]具有保护层的干刻蚀外盖结构有效
| 申请号： | 201420375228.4 | 申请日： | 2014-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN203941940U | 公开（公告）日： | 2014-11-12 |
| 发明（设计）人： | 林士青;黄绣智;陈宜杰;罗世欣 | 申请（专利权）人： | 聚昌科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 中国台湾新竹县*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 具有 保护层 刻蚀 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种具有保护层的干刻蚀外盖结构，其特征在于包括：
外盖本体，其具有多个刻蚀孔，该外盖本体遮盖在多个干刻蚀目标物上方，并自每一个该刻蚀孔露出一个该干刻蚀目标物；以及
保护层，形成于该外盖本体的表面及每一个该刻蚀孔的孔壁。
2.根据权利要求1所述的干刻蚀外盖结构，其特征在于该外盖本体为金属、合金或金属化合物。
3.根据权利要求1所述的干刻蚀外盖结构，其特征在于该外盖本体进一步具有凸出部，自该外盖本体对着承载该干刻蚀目标物的拖盘的方向延伸。
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