[实用新型]一种激光退火装置有效
| 申请号： | 201420382411.7 | 申请日： | 2014-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN203967040U | 公开（公告）日： | 2014-11-26 |
| 发明（设计）人： | 许修齐;叶昱均 | 申请（专利权）人： | 上海和辉光电有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/268 | 分类号： | H01L21/268 |
| 代理公司： | 上海唯源专利代理有限公司 31229 | 代理人： | 曾耀先 |
| 地址： | 201508 上海市金山区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 激光 退火 装置 | ||
1.一种激光退火装置，其特征在于，包括：
用于发射激光束的激光发射器；
用于接收所述激光发射器发出的所述激光束的光束调整组件，所述光束调整组件调整所述激光束照射范围的大小；
用于接收经所述光束调整组件射出的所述激光束并调整所述激光束的能量分布的分光组件，所述分光组件包括多个分光镜，所述激光束照射于多个所述分光镜后形成有透射支路和反射支路，所述透射支路和所述反射支路在分光组件内重合，使得所述激光束能量均匀；
设于经所述分光组件调整后的所述激光束射出处、用于对所述分光组件射出的激光束进行滤光处理的滤光装置；以及
用于将经所述滤光装置滤光处理过的所述激光束进行反射的反射镜。
2.如权利要求1所述的激光退火装置，其特征在于，所述光束调整组件包括至少两个柱面镜，其中的至少一个所述柱面镜以所述激光发射器发出的所述激光束为轴旋转。
3.如权利要求1所述的激光退火装置，其特征在于，所述分光组件包括四个分光镜，四个所述分光镜分别设于正方形的四个角处，激光束照射于第一个分光镜时，形成所述透射支路和所述反射支路，所述透射支路照射于第四个分光镜上，所述反射支路经第二个分光镜和第三个分光镜反射照射于第四个分光镜上，所述透射支路和所述反射支路于上重合，实现调整激光束的能量分布。
4.如权利要求3所述的激光退火装置，其特征在于，所述滤光装置为滤光镜，所述滤光镜设于所述第四个分光镜的激光束射出处，用于接收所述激光束。
5.如权利要求1所述的激光退火装置，其特征在于，所述光束调整组件射出的激光束的大小为3英寸至10英寸。
6.如权利要求1所述的激光退火装置，其特征在于，所述分光组件射出的激光束的能量密度为300mJ/cm2至500mJ/cm2。
7.如权利要求1所述的激光退火装置，其特征在于，所述滤光装置透出激光束的尺寸为3英寸至10英寸。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
