[实用新型]石墨烯/聚吡咯双层薄膜的制备装置有效
| 申请号： | 201420393657.4 | 申请日： | 2014-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN203960353U | 公开（公告）日： | 2014-11-26 |
| 发明（设计）人： | 励盼攀 | 申请（专利权）人： | 励盼攀 |
| 主分类号： | C25B3/00 | 分类号： | C25B3/00;C01B31/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 315725 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 石墨 吡咯 双层 薄膜 制备 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种石墨烯/聚吡咯双层薄膜的制备装置，其特征在于，所述装置包括盛有吡咯单体和高氯酸钠的混合溶液电解质的容器、石墨烯条带薄膜、铂片、参比电极、以及电源，其中，所述石墨烯条带薄膜悬浮于所述电解质中，所述铂片及参比电极分别固定在所述容器的内壁上，所述电源的正极接在所述石墨烯条带薄上；负极接在所述铂片上。
2.根据权利要求1所述的制备装置，其特征在于，所述参比电极可以采用Ag或AgCl。
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