[实用新型]表面清洁装置

权利要求书

1.一种表面清洁装置，其特征在于，所述表面清洁装置包括： 

壳体，所述壳体适于在待清洁表面上移动； 

流体分配系统，所述流体分配系统设置有所述壳体，用于储存和供应流体，并且所述流体分配系统包括供应箱，从所述供应箱提供一部分流体； 

清洁垫，所述清洁垫安装至所述壳体，并且所述清洁垫与所述流体分配系统流体连通；以及 

活性氧发生器，所述活性氧发生器设置有所述壳体，所述活性氧发生器与所述供应箱流体连通，所述活性氧发生器包括： 

换能器；以及 

射声器，所述射声器能将所述换能器操作地耦接至所述一部分流体； 

其中，所述射声器将能量传递至所述一部分流体，以产生提供至所述清洁垫的活性氧。 

2.根据权利要求1所述的表面清洁装置，其特征在于，所述壳体包括下部壳体，所述下部壳体能与上部壳体移动地耦接，并且其中所述清洁垫附接至所述下部壳体。 

3.根据权利要求1所述的表面清洁装置，其特征在于，所述表面清洁装置包括蒸汽发生器，所述蒸汽发生器设置有所述壳体，并且所述蒸汽发生器具有用于将蒸汽传送至所述清洁垫的蒸汽出口。 

4.根据权利要求3所述的表面清洁装置，其特征在于，所述蒸汽出口进一步与所述活性氧发生器流体耦接，以便蒸汽在被传送至所述清洁垫之前与所述活性氧混合。 

5.根据权利要求3所述的表面清洁装置，其特征在于，所述蒸汽发生器包括限定在所述壳体内的第一腔，并且所述汽发生器包括安装在所述第一腔内的加热元件。 

6.根据权利要求1至5中任一项所述的表面清洁装置，其特征在于，所述活性氧发生器包括限定在所述壳体内的第二腔，所述换能器和所述射声器设置在所述第二腔中。 

7.根据权利要求1至6中任一项所述的表面清洁装置，其特征在于，所述活性氧发生器进一步包括设置在所述第二腔内的流体储存器，以用于保持所述一部分流体，其中所述射声器构造成接触保持在所述流体储存器中的所述一部分流体。 

8.根据权利要求6所述的表面清洁装置，其特征在于，所述第一腔和所述第二腔与所述供应箱流体连通，以便所述第一腔和所述第二腔供应有来自所述供应箱的流体。 

9.根据权利要求8所述的表面清洁装置，其特征在于，所述表面清洁装置进一步包括阀，所述阀用于选择性地控制从所述供应箱至所述第一腔和所述第二腔中的一者的流体供应。 

10.根据权利要求8所述的表面清洁装置，其特征在于，所述第一腔和所述第二腔与至少一个所述蒸汽出口流体连通。 

11.根据权利要求1所述的表面清洁装置，其特征在于，所述壳体限定一内部，所述换能器设置在所述内部中，并且其中所述射声器伸出 所述壳体以直接接触所述清洁垫的上表面，所述一部分流体提供至所述清洁垫的所述上表面。 

12.根据权利要求1所述的表面清洁装置，其特征在于，所述流体分配系统进一步包括： 

第一管道，所述第一管道在所述供应箱与所述活性氧发生器之间流体连通，以将流体供应至所述活性氧发生器；以及 

第二管道，所述第二管道在所述供应箱与所述清洁垫之间流体连通，以将流体供应至所述清洁垫。 

13.根据权利要求12所述的表面清洁装置，其特征在于，所述清洁垫包括储液器，以用于容纳来自所述第一管道的流体，其中由所述储液器容纳的流体形成所述一部分流体。 

14.根据权利要求13所述的表面清洁装置，其特征在于，所述储液器包括在所述清洁垫的顶部表面中的敞口凹陷部。 

15.根据权利要求1所述的表面清洁装置，其特征在于，所述活性氧发生器包括超声发生器，所述超声发生器构造成传送具有在20kHz-500kHz范围内的频率的超声波。