[实用新型]废气处理装置

权利要求书

1.一种废气处理装置，包括一壳体(1)，其特征在于，在所述壳体(1)内设有依次连通的反应腔(3)、微波反应腔(4)、紫外反应腔(5)，与所述反应腔(3)相连通设有低温离子发生器(2)，其中，所述微波反应腔(4)位于所述壳体(1)的底部，所述低温离子发生器(2)、所述反应腔(3)以及紫外反应腔(5)置于所述微波反应腔(4)的上方并这三者并排设置。

2.根据权利要求1所述的废气处理装置，其特征在于，在所述壳体(1)内靠近其底部设有与壳体底壁保持平行的第四隔板(16)，由该第四隔板(16)及所述壳体(1)的位于该第四隔板(16)以下的部分共同形成所述微波反应腔(4)，在该微波反应腔(4)内设有磁控管(41)。

3.根据权利要求2所述的废气处理装置，其特征在于，在所述第四隔板(16)的上表面上依次并排设有沿竖直方向设置的第一隔板(11)、第二隔板(12)、第三隔板(13)，其中，所述低温离子发生器(2)置于由所述第一隔板(11)和靠近该第一隔板(11)的壳体部分所形成的腔体内；由所述第一隔板(11)、第二隔板(12)以及位于这两者之间的壳体部分共同形成所述反应腔(3)；由所述第二隔板(12)、第三隔板(13)以及位于这两者之间的壳体部分共同形成所述紫外反应腔(5)；由第三隔板(13)和靠近该第三隔板(13)的壳体部分所形成的腔体构成供净化后的气体排出的出气风道(6)，

在所述壳体(1)的顶部设有与所述反应腔(3)连通的进气口(14)，在与所述第三隔板(13)相对置的壳体部分上设有与所述出气风道(6)连通的出气口(15)。

4.根据权利要求3所述的废气处理装置，其特征在于，所述低温离子发生器(2)靠近由所述第一隔板(11)和靠近该第一隔板(11)的壳体部分所形成的腔体的中部设置，在所述低温离子发生器(2)上方设有与该低温离子发生器(2)连通的气体补充机构(7)，在所述低温离子发生器(2)与第四隔板(16)之间设有电气控制箱(8)。

5.根据权利要求3或4所述的废气处理装置，其特征在于，在所述低温离子发生器(2)内设有一导管(9)，该导管(9)的一端延伸至所述低温离子发生器(2)的底部，其另一端依次贯穿所述低温离子发生器、所述第一隔板(11)与所述反应腔(3)连通。

6.根据权利要求3所述的废气处理装置，其特征在于，在所述第一隔板(11)和第二隔板(12)之间靠近所述进气口(14)设有第一滤层(31)，该第一滤层(31)由一过滤网构成。

7.根据权利要求3所述的废气处理装置，其特征在于，在所述第二隔板(12)和第三隔板(13)之间设有沿竖直方向并列间隔设置并具有多个网孔的支撑架(52)，在该支撑架(52)上安装有高能紫外灯(53)。

8.根据权利要求7所述的废气处理装置，其特征在于，在所述第三隔板(13)上靠近其顶部开设有连通所述紫外反应腔(5)与出气风道(6)的通孔，在所述第二隔板(12)和第三隔板(13)之间于该通孔下方设有第二滤层(51)。

9.根据权利要求8所述的废气处理装置，其特征在于，在所述第三隔板(13)和与其对置的壳体部分之间于所述通孔下方设有第三滤层(61)。

10.根据权利要求1所述的废气处理装置，其特征在于，所述壳体(1)呈长方体状，所述低温离子发生器(2)、所述反应腔(3)以及紫外反应腔(5)沿该长方体的长度方向并排设置。