[实用新型]一种真空直流磁控溅镀膜机

权利要求书

1.一种真空直流磁控溅镀膜机，其特征在于：包括底座、支柱、镀膜室、气动截止阀、质量流量控制器、靶电机、宽量程电离规、气动光栏阀、气动充气阀、高阀、热偶规、油扩散泵、维持阀、维持泵、冷却水控制装置、电机及减速装置、加热电炉、机械泵；所述机械泵设有机械泵进气口、进气滤网、进气管、排气孔、排气阀、转子、弹簧、旋片、工作室、定子；所述镀膜室设有靶电机、补气管、室内加热装置、真空管、转架、衬板、圆柱靶；所述油扩散泵设有油扩散泵进气口、喷嘴、冷却水管、导流管、泵体、加热群、排气口；所述机械泵进气口、排气阀设于机械泵的顶端；所述进气管周围包裹着进气滤网；所述机械泵的抽真空极限为1.33×10^-1Pa，泵轴转速为450r/min，抽气速率为2L/s；所述喷嘴、导流管设于油扩散泵中央；所述加热群设于油扩散泵的底端；所述镀膜室室体采用前开门、立式圆筒形钢板结构，在镀膜室内及顶部中央均安装3个圆柱形磁控旋靶为阴极，圆筒室壁接地为阳极；圆柱靶及镀膜室构成一个同轴圆柱形磁控溅射系统。