[实用新型]激光器用去离子制冷循环水路系统有效

专利信息
申请号: 201420438651.4 申请日: 2014-08-06
公开(公告)号: CN204202283U 公开(公告)日: 2015-03-11
发明(设计)人: 杨林;徐海森 申请(专利权)人: 武汉洛芙科技股份有限公司
主分类号: F25D17/02 分类号: F25D17/02;C02F1/469
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 430075 湖北省武汉市东湖高新*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 激光 器用 离子 制冷 循环 水路 系统
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种冷却装置,尤其是一种激光器用去离子制冷循环水路系统。

背景技术

去离子水顾名思义就是去除水中的离子后所得的纯净水,水中的离子一般为溶解的电解质,包含如钙、镁、钾、钠等阳离子及碳酸根、硫酸根、氯酸根等阴离子,这些电解质的存在会影响冷却管路的使用寿命,造成腐蚀或水垢形成,故需采用各处理方法去除。

实用新型内容

本实用新型主要解决的技术问题是提供一种激光器用去离子制冷循环水路系统,防止管路出现锈蚀及水垢。

为了达到上述发明目的,本实用新型的技术方案是这样实现的:

激光器用去离子制冷循环水路系统,由水箱、直流水泵、制冷装置、去离子装置、激光器、散热装置依次通过水管连接构成。

具体可以是双循激光器用去离子制冷循环水路系统,包括水箱一、水箱二、水冷板、致冷器、水冷头,所述水冷板的外侧设置有致冷器,所述致冷器的外侧设置有水冷头,所述水箱一内的水依次通过第一直流水泵、水冷板、去离子装置、流经激光发生器后再流回水箱一,所述水箱二内的水依次通过直流水泵二、水冷头流经铝制散热水排后再流回水箱二,所述铝制散热水排连接着风扇。所述水冷板和致冷器通过紧固件紧密接触,所述致冷器和水冷头通过紧固件紧密接触。所述水冷板和致冷器之间通过硅胶导热,所述致冷器和水冷头之间通过硅胶导热。致冷器一边紧贴到所述水冷板顶部与底部,然后将水冷头紧贴到致冷器另一边,水冷板、致冷器、水冷头三者紧贴过程中使用硅胶导热,水冷板、致冷器、水冷头三者通过紧固件紧密接触。

本实用新型的有益效果是:该水路系统主要是实现对通过于激光器水进行去离子与制冷,该结构简单、便于安装与拆卸,可反复操作,并防止管路出现锈蚀及水垢。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步详细的说明。

附图1是本实用新型的激光器用去离子制冷循环水路系统原理图;

附图2是本实用新型的双循激光器用去离子制冷循环水路系统原理图。

具体实施方式

以下,参照附图详细说明本实用新型的优选实施例。

本实用新型公开了一种激光器用去离子制冷循环水路系统。该结构包括:水箱、直流水泵、制冷装置、去离子装置、水流开关、激光器、散热排依次通过水管连接,水箱中的水通过直流水泵抽送到制冷装置中,经制冷后送入去离子装置中去处水中离子,经由水流开关送入激光器上的附加散热装置,然后经由散热排散热回入水箱中。水箱:存水,保证系统中的水量; 直流水泵:提供动力,使水流动起来;制冷装置:对系统中的水进行制冷.保证激光器在合理的温度中工作;去离子装置:对系统中的水进行净化,减少离子浓度,保证激光器的水质安全;激光器:工作元件;散热排:通过与空气交换,降低水温。

该水路系统主要是实现对通过于激光器水进行去离子与制冷。该结构简单、便于安装与拆卸,可反复操作等优点。

双循激光器用去离子制冷循环水路系统,其包括水箱一、水箱二、水冷板、致冷器、水冷头,所述水冷板的外侧设置有致冷器,所述致冷器的外侧设置有水冷头,所述水箱一内的水依次通过第一直流水泵、水冷板、去离子装置、流经激光发生器后再流回水箱一,所述水箱二内的水依次通过直流水泵二、水冷头流经铝制散热水排后再流回水箱二,所述铝制散热水排连接着风扇。所述水冷板和致冷器通过紧固件紧密接触,所述致冷器和水冷头通过紧固件紧密接触。所述水冷板和致冷器之间通过硅胶导热,所述致冷器和水冷头之间通过硅胶导热。致冷器一边紧贴到所述水冷板顶部与底部,然后将水冷头紧贴到致冷器另一边,水冷板、致冷器、水冷头三者紧贴过程中使用硅胶导热,水冷板、致冷器、水冷头三者通过紧固件紧密接触。

该去离子装置为电去离子系统,主要是在直流电场的作用下,通过隔板的水中电介质离子发生定向移动,利用交换膜对离子的选择透过作用来对水质进行提纯。电渗析器的一对电极之间,通常由阴膜,阳膜和隔板(甲、乙)多组交替排列,构成浓室和淡室,淡室水中阳离子向负极迁移透过阳膜,被浓室中的阴膜截留;水中阴离子向正极方向迁移阴膜,被浓室中的阳膜截留,这样通过淡室的水中离子数逐渐减少,成为淡水,而浓室的水中,由于浓室的阴阳离子不断涌进,电介质离子浓度不断升高,而成为浓水,从而达到淡化,提纯,浓缩或精制的目的。

需要注意的是,本领域人员所进行的改动和变化不脱离本实用新型的精神和范围,则都应在本实用新型所附权利要求的保护范围内。

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