[实用新型]能改变靶表面磁通量的磁控溅射靶有效
申请号: | 201420450696.3 | 申请日: | 2014-08-11 |
公开(公告)号: | CN204058587U | 公开(公告)日: | 2014-12-31 |
发明(设计)人: | 徐根保;杨勇;金克武;蒋继文;张宽翔;曹欣;姚婷婷 | 申请(专利权)人: | 中国建材国际工程集团有限公司;蚌埠玻璃工业设计研究院 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/54 |
代理公司: | 上海硕力知识产权代理事务所 31251 | 代理人: | 王法男 |
地址: | 200061 上海市普*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 改变 表面 磁通量 磁控溅射 | ||
1.一种能改变靶表面磁通量的可移动磁控溅射靶,包括靶材组件和磁体组件,其特征在于,所述靶材组件和所述磁体组件之间可以相对运动。
2.根据权利要求1所述的可移动磁控溅射靶,其特征在于,所述靶材组件固定于铜背板的上表面,所述磁体组件置于所述铜背板的后盖板的下表面之下,所述磁体组件上设有驱动机构带动可相对于所述后盖板做水平及垂直方向运动。
3.根据权利要求2所述的可移动磁控溅射靶,其特征在于,所述磁体组件与所述后盖板的下表面之间留有适量的间隙。
4.根据权利要求3所述的可移动磁控溅射靶,其特征在于,所述铜背板的后表面开有对应于所述靶材的凹槽并以后盖板水密封封闭,且所述凹槽与所述后盖板之间留有空隙形成水冷通道。
5.根据权利要求2所述的可移动磁控溅射靶,其特征在于,所述磁体组件由矩形槽状磁体座及多块磁铁组成。
6.根据权利要求4所述的可移动磁控溅射靶,其特征在于,所述磁铁可为矩形或正方形截面的条状磁铁,所述多块磁铁沿所述磁体座定位槽拼接排列在所述矩形槽状磁体座浅槽内,组成“日”字形结构,外围一圈磁铁与中心磁铁极性相反,所述矩形槽状磁体座的开口端露出所述磁铁的另一端磁极,对着所述后盖板的下表面。
7.根据权利要求2所述的可移动磁控溅射靶,其特征在于,所述驱动机构为包括高压气泵连接气压控制模块,所述气压控制模块分别与垂直放置的单作用伸缩缸和水平放置的双活塞杆伸缩缸连接,单作用伸缩缸的活塞杆与磁体座下表面的导轨活动连接,双活塞杆伸缩缸的两个活塞杆分别与磁体座下表面的导轨两端活动连接,导轨在垂直方向留有空隙,可供活塞杆在垂直方向运动。
8.根据权利要求7所述可移动磁控溅射靶,其特征在于,所述驱动机构为压活塞杆驱动机构或电机-螺杆-滚珠丝杆驱动机构。
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