[实用新型]一种长寿命磁控溅射靶材有效
申请号: | 201420452183.6 | 申请日: | 2014-08-12 |
公开(公告)号: | CN204097558U | 公开(公告)日: | 2015-01-14 |
发明(设计)人: | 罗俊锋;刘书芹;万小勇;董亭义;何金江;于海洋;刘冬青;吕保国 | 申请(专利权)人: | 有研亿金新材料有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人: | 刘秀青;熊国裕 |
地址: | 102200*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 寿命 磁控溅射 | ||
1.一种长寿命磁控溅射靶材,包括溅射面和冷却面,其特征在于,所述溅射面的溅射区域在靶材原溅射区的基础上增厚2mm以内,增厚部分的面积小于靶材原溅射区域,且增厚部分的边缘与靶材原溅射区域之间呈台阶状或斜坡状。
2.如权利要求1所述的长寿命磁控溅射靶材,其特征在于,所述靶材原溅射区的厚度为5.8~6.2mm。
3.如权利要求1所述的长寿命磁控溅射靶材,其特征在于,所述增厚部分大于靶材实际溅射区域。
4.如权利要求1所述的长寿命磁控溅射靶材,其特征在于,所述增厚部分距离长边3~5mm。
5.如权利要求1所述的长寿命磁控溅射靶材,其特征在于,所述增厚部分的宽度为117~121mm。
6.如权利要求1所述的长寿命磁控溅射靶材,其特征在于,所述增厚部分距离宽边5~7mm。
7.如权利要求1所述的长寿命磁控溅射靶材,其特征在于,所述增厚部分的长度为367~371mm。
8.如权利要求1所述的长寿命磁控溅射靶材,其特征在于,所述靶材为单体靶或焊接型靶。
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