[实用新型]抽气环及沉积设备有效
| 申请号： | 201420454466.4 | 申请日： | 2014-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN204080101U | 公开（公告）日： | 2015-01-07 |
| 发明（设计）人： | 徐建华 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抽气环 沉积 设备 | ||
1.一种抽气环，其特征在于，包括圆形的环体及设置在所述环体上的多个抽气孔，所述环体包括快速抽气区域和慢速抽气区域，所述快速抽气区域与一反应腔室的抽气口的位置相对应，所述慢速抽气区域的抽气孔的密度大于所述快速抽气区域的抽气孔的密度。
2.如权利要求1所述的抽气环，其特征在于，所述慢速抽气区域的抽气孔的间距范围是3mm～8mm。
3.如权利要求1所述的抽气环，其特征在于，所述快速抽气区域的抽气孔的间距范围是7mm～12mm。
4.如权利要求1至3中任一项所述的抽气环，其特征在于，所述快速抽气区域和慢速抽气区域的抽气孔的直径范围是2mm～4mm。
5.一种沉积设备，其特征在于，包括一侧设有抽气口的反应腔室及设于所述反应腔室内的抽气环，所述抽气环包括快速抽气区域和慢速抽气区域，所述快速抽气区域与一反应腔室的抽气口的位置相对应，所述慢速抽气区域的抽气孔的密度大于所述快速抽气区域的抽气孔的密度。
6.如权利要求5所述的沉积设备，其特征在于，所述慢速抽气区域的抽气孔的间距范围是3mm～8mm。
7.如权利要求5所述的沉积设备，其特征在于，所述快速抽气区域的抽气孔的间距范围是7mm～12mm。
8.如权利要求5至7中任一项所述的沉积设备，其特征在于，所述快速抽气区域和慢速抽气区域的抽气孔的直径范围是2mm～4mm。
9.如权利要求5所述的沉积设备，其特征在于，还包括设于所述反应腔室内的加热器，所述抽气环围绕所述加热器。
10.如权利要求5所述的沉积设备，其特征在于，所述快速抽气区域与所述抽气口的大小一致。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
