[实用新型]高均匀性线形同轴照明系统

说明书

技术领域

本实用新型属于机器视觉照明技术领域，具体涉及高均匀性线形同轴照明系统。

背景技术

在机器视觉领域的照明系统中，同轴照明应用比较广泛，同轴照明的特点就是照明系统的光轴和成像镜头的光轴是重合的，因此能够完美的反应出被测物体的细节。但是目前的同轴照明，基本都是应用于面阵CCD上，也就是说照明光斑为圆形光斑。虽然也有人将圆形光斑的照明系统应用在线阵CCD系统上，但是因为线形CCD成像范围大，因此往往照明效果不尽如人意，照明均匀性很差。基本都会出现中间的照明强度要比边缘照明强度高30%左右。并且由于CCD需要大范围照明系统的特点，导致圆形光斑的照明系统工作距很长，增大了设备体积，调试也不方便。

实用新型内容

针对现有技术存在的问题，本实用新型的目的在于设计提供一种高均匀性线形同轴照明系统的技术方案。

所述的高均匀性线形同轴照明系统，包括光源固定壳体，其特征在于所述的光源固定壳体中固定设置凹形柱面反射镜，所述的凹形柱面反射镜右下方固定设置照明光纤，所述的凹形柱面反射镜正下方固定设置分光镜，所述的分光镜正下方设有第一通光槽，所述的分光镜的左侧设有第二通光槽，所述的第二通光槽左侧固定设置与分光镜平行的反光镜，所述的反光镜正上方设有第三通光槽。

所述的高均匀性线形同轴照明系统，其特征在于所述的凹形柱面反射镜成45度角设置。

所述的高均匀性线形同轴照明系统，其特征在于所述的分光镜上镀有反射率70%、透射率30%的膜层。

所述的高均匀性线形同轴照明系统，其特征在于所述的反光镜上镀有全反射膜。

上述的高均匀性线形同轴照明系统，结构简单，设计合理，大大减小了设备的体积，不但继承了传统的同轴照明的优点，高均匀性，而且还优化了传统同轴照明系统对于线扫描CCD成像的缺点，对于物件表面的划痕和凹陷问题，都能够完美成像。

附图说明

图1为本实用新型结合线扫描镜头和CCD的结构示意图；

图2为图1的剖视图。

图中：1-光源固定壳体；2-凹形柱面反射镜；3-照明光纤；4-分光镜；501-第一通光槽；502-第二通光槽；503-第三通光槽；6-被测物；7-反光镜；8-线扫描镜头；9-CCD。

具体实施方式

以下结合说明书附图来进一步说明本实用新型。

如图所示，高均匀性线形同轴照明系统包括光源固定壳体1及设置在光源固定壳体1中的凹形柱面反射镜2、照明光纤3、分光镜4、反光镜7。其中凹形柱面反射镜2呈45度角设置在光源固定壳体1，照明光纤3设置在凹形柱面反射镜2右下方，分光镜4设置在凹形柱面反射镜2正下方，且分光镜4呈45度角设置，反光镜7平行设置在分光镜4左侧。分光镜4上镀有反射率70%、透射率30%的膜层，反光镜7上镀有全反射膜。分光镜4正下方设有第一通光槽501，第一通光槽501的正下方为被测物6，分光镜4和反光镜7之间设有第二通光槽502（即分光镜4的左侧设有第二通光槽502），反光镜7正上方设有第三通光槽503。第三通光槽503正上方依次配合设置线扫描镜头8和CCD9。

工作时，照明光纤3的出射光束，照射到凹形柱面反射镜2上，凹形柱面反射镜2呈45度角摆放，能够将入射光束收拢汇聚，并且反射到分光镜4上，分光镜呈45度角摆放，上面镀有反射率70%的膜，因此剩有30%的光束通过分光镜4，经过下第一通光槽501，照射到被测物6上，被测物6被光束照射，产生反射光束，通过下第一通光槽501，返回到分光镜4上，分光镜4上镀有70%的膜，因此有70%的剩余光束被反射，并且通过中第二通光槽502，照射到反光镜7上，反光镜7呈45度角摆放，上面镀有全反射膜，因此将光束经90度旋转，全部反射，并通过上第三通光槽503，入射到线扫描镜头8中，线扫描镜头8将入射光汇聚，并且成像到CCD 9上。

以上仅就本实用新型较佳的实施例作了说明，但不能理解为是对权利要求的限制。本实用新型不仅局限于以上实施例，其具体结构允许有变化。凡在本实用新型独立权利要求的保护范围内所作的各种变化均在本实用新型的保护范围内。