[实用新型]光学膜组件有效
申请号: | 201420474689.7 | 申请日: | 2014-08-21 |
公开(公告)号: | CN204101761U | 公开(公告)日: | 2015-01-14 |
发明(设计)人: | 何宽鑫;云花;赵峰;曾龙;许毅中;徐国书;张春勇;林余钧 | 申请(专利权)人: | 宸鸿科技(厦门)有限公司 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11;G02B1/10 |
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地址: | 361006 福建省厦门市*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 组件 | ||
1.一种光学膜组件,包含:
一基板;
一抗眩层,设置于该基板上,该抗眩层具有一微粗糙结构,位于相反于该基
板的一侧;
一第一抗反射层,设置于该抗眩层的该微粗糙结构上,该抗眩层位于该基板
以及该第一抗反射层之间;以及
一第二抗反射层,设置于该第一抗反射层上,该第一抗反射层位于该抗眩层
以及该第二抗反射层之间;
其中,该第一抗反射层的折射率相异于该抗眩层的折射率。
2.如权利要求1所述之光学膜组件,其中该第一抗反射层之折射率大于该抗眩层的折射率。
3.如权利要求1所述之光学膜组件,其中该第一抗反射层之折射率大于1.8,该第二抗反射层之折射率小于1.5。
4.如权利要求1所述之光学膜组件,其中该第一抗反射层之折射率大于该第二抗反射层之折射率。
5.如权利要求1所述之光学膜组件,其中该抗眩层的成分包含SiO2,该第一抗反射层之成分系选自于SiO2、Nb2O5、TiO2、Ta2O5、SiOxNy、Si3N4及Ti3O5所组成之群组,其中该第二抗反射层之成分系选自于SiO2及MgF2所组成之群组。
6.如权利要求1所述之光学膜组件,另包含一抗污层,设置于该第二抗反射层上,该第二抗反射层位于该第一抗反射层以及该抗污层之间。
7.如权利要求1所述之光学膜组件,其中该第一抗反射层以及该第二抗反射层之总厚度介于225奈米以及255奈米之间,该抗眩层之厚度小于100奈米。
8.如权利要求1所述之光学膜组件,其中该微粗糙结构具有多个凸起部以及多个凹陷部,该些凹陷部形成于该些凸起部之间,且该第一抗反射层的一部份系位于该些凹陷部上。
9.如权利要求8所述之光学膜组件,其中该抗眩层具有彼此相对的一第一侧以及一第二侧,该些凸起部的尺寸自该第一侧朝向该第二侧缩小。
10.如权利要求1所述之光学膜组件,其中该微粗糙结构为不规则形状。
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