[实用新型]一种同轴共焦光路实现场镜焦平面定位的装置

说明书

技术领域

本实用新型属于激光应用设备领域，更具体地，涉及一种同轴共焦光路实现场镜焦平面定位的装置。

背景技术

现阶段，在激光应用设备中，小直径的激光光束拥有较高的能量密度，可实现工业激光的应用。通常采用的激光光束聚焦器件为场镜，场镜具有确定的焦平面位置，场镜焦平面位置的一定范围内为激光有效作用区域，称为焦深。在激光加工过程中，随着加工器件厚度的不同，需要对场镜或者加工器件的位置进行调节，已实现加工器件在场镜的有效焦距内。通常情况下，对场镜的调节依靠传统刻度尺的人工测量或采用其他测距工具。传统刻度尺的人工测量或其他测距工具具有耗时长、精度低和操作难的特点。

实用新型内容

针对现有技术的以上缺陷或改进需求，本实用新型提供了一种同轴共焦光路实现场镜焦平面定位的装置，其目的在于提高场镜焦平面定位效率和精度，旨在解决传统刻度尺的人工测量导致耗时长、精度低和操作难的技术问题。

本实用新型提供了一种同轴共焦光路实现场镜焦平面定位的装置，包括场镜、半透半反镜、电动变倍镜头、摄像机和位移平台；所述半透半反镜与成像光路光轴呈45度角放置，实现成像光路光轴的90度变换，激光光路光轴与成像光路光轴重合；所述半透半反镜的透射侧设置有所述场镜，所述半透半反镜的反射侧设置有所述电动变倍镜头；用于放置加工工件的位移平台设置在激光光路上，所述摄像机与所述电动变倍镜头固定连接；所述场镜的焦平面和所述摄像机的成像面重合。

其中，工作时，加工工件放置在所述位移平台上，场镜发出的激光经所述半透半反镜透射后作用在所述加工工件；所述加工工件反射的可见光经所述半透半反镜反射后进入所述电动变倍镜头，并到达摄像机成像平面。

其中，所述半透半反镜为双面镀有激光波段的高透膜且反射面镀有可见光高反膜的半透半反镜。

本实用新型提供了一种同轴共焦光路实现场镜焦平面定位的装置，其特征在于，包括场镜、半透半反镜、电动变倍镜头、摄像机和位移平台；所述半透半反镜与成像光路光轴呈45度角放置，实现成像光路光轴的90度变换，激光光路光轴与成像光路光轴重合；所述半透半反镜的透射侧设置有所述电动变倍镜头，所述半透半反镜的反射侧设置有所述场镜；用于放置加工工件的位移平台设置在激光光路上，所述摄像机与所述电动变倍镜头固定连接；所述场镜的焦平面和所述摄像机的成像面重合。

其中，工作时，加工工件放置在所述位移平台上，场镜发出的激光经所述半透半反镜反射后作用在所述加工工件上；所述加工工件反射的可见光经所述半透半反镜透射后进入所述电动变倍镜头，并到达所述摄像机成像平面。

其中，所述半透半反镜为双面镀有可见光波段的高透膜且透射面镀有激光波段高反膜的半透半反镜。

本实用新型具备成像系统与激光应用系统同轴共焦的能力，具有实时成像与激光扫描同步的特点，可对场镜焦平面实现快速定位其操作简单方便，提高了生产效率；提高了场镜焦平面定位效率和精度。

附图说明

图1是本实用新型第一种光路实现形式的侧视图。

图2是本实用新型第二种光路实现形式的侧视图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。此外，下面所描述的本实用新型各个实施方式中所涉及到的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。

本实用新型涉及一种对激光应用设备中场镜焦平面快速精确定位的装置，尤其是能实现激光光路和成像光路的同轴共焦。克服了现有场镜焦平面定位装置的不足，提高场镜焦平面定位效率和精度，本实用新型提供一种同轴共焦光路实现场镜焦平面定位装置，该装置不仅能精确快速进行场镜焦平面定位，而且能实时提供激光对加工器件扫描的情况。

本实用新型从光路的实现角度，有两种实现方式：