[实用新型]一种用于炉门的自动控制机构

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种主要应用于离子体增强化学气相淀积设备（PECVD）的反应炉体炉门中的安全有效的炉门精确控制机构，同时也适用于其他一些需要对炉门精确对准的设备。

背景技术

等离子体增强化学气相淀积设备（PECVD），是利用高频电源辉光放电产生等离子体对化学气相沉积过程施加影响的技术。作为单晶硅和多晶硅电池片生产工艺的关键设备之一，其效率及稳定性关系到整条生产线的效率。在当今时代生产的稳定运行尤为重要，如何使设备稳定运行，作为PECVD设备中的一个部件，炉门机构的稳定性对整个设备的稳定性有很大影响。

电热炉是特制的高可靠性的发热体，是经过特殊工艺制成，它对恒温区的长度、精度及稳定度提供了基础，是影响成膜速率和均匀性的必要条件之一。工艺管是引进美国的.具有口径大、壁厚均匀无气泡的优良性，它水平置于炉体的中央，两端配有密封法兰，同时经特殊磨口为真空密封提供可靠保证。

目前，对于炉门的运动控制，在领域内应用最多的是旋转式炉门、步进电机炉门等方式。中国发明专利申请CN102719805A 公开了一种用于PECVD设备的自动炉门机构，该运动控制机构运用连杆控制炉门旋转，从而达到炉门的开启和闭合。该机构精度不高，缺少炉门与炉门口的对心功能，因而密封性能差，且运动空间大，体积和和总量比较大。

上述现有技术存在精度不够、结构相对复杂，以及占用空间大的缺陷，这对于PECVD设备行业对于设备占用空间及设备稳定性有着苛刻限制的要求是非常不利的。

实用新型内容

针对现有技术存在的上述缺陷，本实用新型旨在提供一种PECVD炉门位置可调，控制精确，密封性能好的新型炉门自动控制机构，该炉门机构可以保证炉门和石英管门完全密封。

为了实现上述目的，本实用新型所采用的技术方案是：

一种PECVD炉门自动控制机构，其结构特点是，包括至少一组控制机构单元；每组控制机构单元包括底座，固定安装在底座上的纵向移动机构，以及装在纵向移动机构上的横向移动机构；可沿着纵向移动机构纵向移动的所述横向移动机构上装有上支撑板，可沿着横向移动机构横向移动的该上支撑板通过一横向固定板与相应炉门的固定筒固定相连。

以下为本实用新型的进一步改进的技术方案：

进一步地，所述横向移动机构包括横向导轨和固定在纵向移动机构上的气缸，该气缸的活塞杆端与所述上支撑板固定相连，该上支撑板装在横向导轨上并在活塞杆的驱动下可沿着横向导轨往复移动。

进一步地，所述上支撑板上有腰型孔，所述横向固定架通过两个穿过所述腰型孔的紧固件固定在上支撑板上。

所述横向移动机构的气缸为无杆双作用气缸。

纵向移动机构采用气缸控制导轨移动，纵向移动气缸固定在底座上，所述横向移动机构采用心轴支撑在纵向移动机构上。

所述横向移动机构和纵向移动机构呈十字交叉对称布置，可以保证机构运行平稳。

所述控制机构单元为多组，各组控制机构单元竖向叠置。更优选地，所述控制机构单元为四组。

优选地，所述气缸的活塞杆位于两根横向导轨的中间。

藉由上述结构，本实用新型的炉门自动控制机构，主要用于PECVD设备；炉门横向移动采用导轨方式，气缸控制采用气缸控制，横向移动气缸是固定在纵向移动机构上的。作为本实用新型的进一步改进，因为横向移动采用气缸导轨的方式，炉门横向移动变为直线运动，炉门运动所需空间变小，因而可以在有限运动空间下将炉门的直径增大，送入的氮化硅等物料直径也可以随之增大，氮化硅等圆柱体物料的表面积增大，其生成的减反射薄膜增加，从而提高了生产效率，增大了产能。

横向移动机构固定在纵向导轨上，通过无杆气缸可以将炉门拉至一侧，避免了与物料产生碰撞，因为采用四炉门并列放置，采用本实用新型的横向移动机构不会影响到另三个炉门的开启，极大方便物料的送入，提高了生产效率。

横向移动机构及纵向移动气缸均采用对称布置，保证了炉门运动的稳定性，增加了设备使用寿命。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：采用气缸控制的纵向移动可以保证炉门纵向垂直打开，且因为运用了导轨，工况平稳、安全，而且闭合时能够同时闭合，对电热炉的工作环境降到了最小，极大提高了成品率，提高了生产效率。

以下结合附图和实施例对本实用新型作进一步阐述。

附图说明

图1是本实用新型一个实施例的结构原理图；

图2 是图1的左视图；

图3示出了电热炉的放置位置。

在图中：