[实用新型]低温烹饪机

说明书

技术领域

本实用新型涉及厨房用具，特别是涉及一种低温烹饪机。 

背景技术

低温烹饪是一种在一个相对较低恒定温度的水中长时间加热的烹饪方法。采用这种烹饪方法的食物需烹饪很长的时间，有些需超过24小时，不像用慢炖锅烹饪，低温烹饪是将食物用胶袋密封放置在低于水沸点的热水(例如：60℃)中长时间浸浴，低温烹饪往往需要精确控制热水的温度，甚至1度的偏差都会影响食物的品质。传统低温烹饪机分为发热器紧贴容器底部加热或发热器置于容器内部加热两种，再通过电子控制利用置于容器外部的温度感应器控制发热器达到恒温目的。这两种低温烹饪机的缺陷在于，发热器紧贴容器底部或置于容器内部的加热方式均会造成容器内靠近发热器的部位温度较高，造成容器内水温不平均影响食物的品质；此两种方式，水均为被动循环方式，显示温度与真实温度有偏差，从而进一步影响食物的品质。 

如专利号CN 102665495所公开的一种真空低温烹调机，其利用PID技术及被动水循环的方式，实现水温的调节，使水温保持在公差内的恒定温度内。从热学知识我们知道，在加热过程中，烹调室内壁的温度要比置于烹调室内的水和盛装食物的真空袋要高；在烹调过程中，如果真空食物袋的两面的任一面接触锅壁，另一面置于水中，则真空袋两个表面的温度会不同，即接触烹调室内壁面的温度要比非接触烹调室内壁面的温度要高，这对要求精准温度和温度均衡的真空烹调所不希望的；另外如专利所示，为调节水温不均匀问题，其在烹调室内加了一个被动水循环器，利用烟囱效应使水被动流动，但我们知道，烟囱效应本身就是水温不均衡所造成的现象，其顶部的水温会被中低部的水温高，并且烟囱效应所产生用于搅拌水的动力很有限；另外，其为减小热惯性，从其专利了解到采用了本技术领域内人员所共知的硅胶厚膜发热材料，共知此种硅胶厚膜发热方式其价格是相对较高的。 

又如专利：CN 102389257所述，其为了减小容器壁跟容器内水温的温差和热惯性，采用了把发热器跟烹调室分离的方式，其水循环采用水泵抽吸的方式，在水泵外力的作用下，此方式能有效的把烹调室内的水温调合一致，但其进水口及出水口均没有把水有效分散，致使烹调室内局部热量不均衡。 

实用新型内容

针对上述现有技术现状，本实用新型所要解决的技术问题在于，提供一种水温均匀的低温烹饪机，以实现温度精确控制，提高烹饪品质。 

为了解决上述技术问题，本实用新型所提供的一种低温烹饪机，包括： 

壳体； 

烹调室，所述烹调室设置于所述壳体内，所述烹调室的壁上设置有进水口和出水口； 

水加热循环系统，所述水加热循环系统包括发热器、连接管道和水泵，所述发热器和所述水泵通过所述连接管道与所述进水口和所述出水口连接形成水循环的回路； 

控制系统，所述控制系统包括温度感应器、控制面板及控制器，所述温度感应器和所述控制面板均与所述控制器相连； 

还包括： 

第一分散装置，所述第一分散装置设置于所述进水口处，使所述水加热循环系统加热后的水分散后进入所述烹调室内；以及 

第二分散装置，所述第二分散装置设置于所述出水口处，使所述烹调室内的水分散后送入所述水加热循环系统。 

在其中一个实施例中，所述第一分散装置和所述第二分散装置分别设置于所述烹调室的两个相对的壁上，且所述第一分散装置的高度高于所述第二分散装置的高度。 

在其中一个实施例中，所述第一分散装置包括： 

第一混合室，所述第一混合室形成于所述烹调室的壁上，在所述第一混合室的壁上设置有所述进水口；以及 

第一分散板，所述第一分散板设置于所述第一混合室与所述烹调室的内腔之间，且在所述第一分散板上设置有若干进水收集孔。 

在其中一个实施例中，所述第一混合室由所述烹调室的壁向外凹形成。 

在其中一个实施例中，所述进水收集孔靠近所述第一混合室的一端为喇叭形。 

在其中一个实施例中，所述第二分散装置包括： 

第二混合室，所述第二混合室形成于所述烹调室的壁上，所述第二混合室的壁上设置有所述出水口；以及 

第二分散板，所述第二分散板设置于所述第二混合室与所述烹调室的内腔之间，且在所述第二分散板上设置有若干出水分散孔。 

在其中一个实施例中，所述第二混合室由所述烹调室的壁向外凹形成。 

在其中一个实施例中，所述出水分散孔靠近所述第二混合室的一端为喇叭形。