[实用新型]一种文蛤壳清洗装置有效
申请号: | 201420511445.1 | 申请日: | 2014-09-08 |
公开(公告)号: | CN204122405U | 公开(公告)日: | 2015-01-28 |
发明(设计)人: | 程梅雪 | 申请(专利权)人: | 程梅雪 |
主分类号: | B08B3/04 | 分类号: | B08B3/04;B08B3/10;F26B3/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 350200 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 文蛤 清洗 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及文蛤壳清洗技术领域,特别是一种文蛤壳清洗装置。
背景技术
文蛤壳是文蛤壳粉的主要原料,其需要通过研磨才能制备出文蛤壳粉,但是文蛤壳在研磨前需要对文蛤壳进行清洗,烘干等工序,现有的工序一般都是通过人工清洗,然后通过风干机进行干燥,其不仅浪费人力,而且文蛤壳的多次运输使整个工序变得繁琐。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种文蛤壳清洗装置,能实现清洗和干燥在一罐体内进行,最大程度简化了文蛤壳处理工序。
本实用新型采用以下方案实现:一种文蛤壳清洗装置,其特征在于:包括一嵌设在双层厂房中间层的罐体,所述罐体的上边缘与所述中间层的上表面平齐;所述罐体的上表面设置有一搅拌电机,所述的搅拌电机的转轴延伸至罐体内,且该转轴的端部设置有一搅拌头;所述罐体套设有加热夹套,所述罐体的上端开设有一进料口和进水口,所述的进料口上设置有一盖体;靠近罐体上边缘的侧壁上开设有一出气孔,所述的出气孔经出气管路连接到一抽风机;所述罐体底部设置有一下盖体,所述下盖体由设置于罐体侧壁上的液压杆经一第一曲臂实现开关;靠近罐体下边缘的侧壁上设置有一排水口,所述的排水口上设置有排水阀;所述的罐体下方设置有一传送带;所述传送带上架设有一限位框,用以限制罐体卸下的文蛤壳掉入该限位框内的传送带上;所述的传送带开设有若干个漏水孔;所述传送带的下方设置有一盛水槽。
在本实用新型一实施例中,所述的漏水孔阵列式开设于所述的传送带上。
在本实用新型一实施例中,所述中间层靠近罐体上边缘的表面上设置有一限位块。
在本实用新型一实施例中,还包括一承载文蛤壳的推车,所述的限位块用以限制推车的前行位置,所述推车由一升降梯在该双层厂房内上下升降。
本实用新型结构简单,通过利用双层厂房的上下空间特点,将文蛤壳清洗和干燥集成与一罐体内,克服了现有技术文蛤壳人工清洗,且清洗后需要转移等繁琐工序,具有一定的实用价值。
附图说明
图1是本实用新型结构示意图。
图2是本实用新型传送带具备结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图及实施例对本实用新型做进一步说明。
如图1和图2所示,本实施例提供一种文蛤壳清洗装置,其特征在于:包括一嵌设在双层厂房1中间层的罐体2,所述罐体的上边缘与所述中间层3的上表面平齐;所述罐体的上表面设置有一搅拌电机4,所述的搅拌电机的转轴5延伸至罐体内,且该转轴的端部设置有一搅拌头6;所述罐体套设有加热夹套7,所述罐体的上端开设有一进料口8和进水口9,所述的进料口8上设置有一盖体10;靠近罐体上边缘的侧壁上开设有一出气孔11,所述的出气孔11经出气管路12连接到一抽风机13;所述罐体底部设置有一下盖体14,所述下盖体由设置于罐体侧壁上的液压杆15经一第一曲臂16实现开关;靠近罐体下边缘的侧壁上设置有一排水口17,所述的排水口上设置有排水阀18;所述的罐体下方设置有一传送带19;所述传送带上架设有一限位框20,用以限制罐体卸下的文蛤壳掉入该限位框内的传送带上;所述的传送带开设有若干个漏水孔21;所述传送带的下方设置有一盛水槽22。
本实用新型在使用时,将文蛤壳从进料口8倒入,然后将水从进水口9充入罐体,开启搅拌电机,对文蛤壳进行清洗搅拌,清洗搅拌结束后,开启排水阀18,将罐体内的水排净,然后开启加热夹套7,对罐体进行加热,开启抽风机13,随着罐体内的温度升高,文蛤壳上的水蒸发,被抽风机13抽出,这样就能完成对文蛤壳的干燥,干燥好后,控制液压杆15打开下盖体14,罐内的文蛤壳则掉入下方的限位框内的传动带上,这样,干燥后的文蛤壳则被传送到下一工序。值得一提的是,由于文蛤壳在研磨前,并不需要干燥非常彻底,因此,本申请中在传送带上设置漏水孔,如果文蛤壳内还有多余的水,则会通过卸料时,由该漏水孔排出。
较佳的,请继续参见图2,本实施例中,所述的漏水孔21阵列式开设于所述的传送带上。
值得一提的是,本装置是对文蛤壳进行批量清洗,因此,请参见图1,所述中间层靠近罐体上边缘的表面上设置有一限位块23。此外还包括一承载文蛤壳的推车(图为示意),所述的限位块用以限制推车的前行位置,所述推车由一升降梯(图为示意)在该双层厂房内上下升降。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例,凡依本实用新型申请专利范围所做的均等变化与修饰,皆应属本实用新型的涵盖范围。
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