[实用新型]原子层沉积设备

权利要求书

1.一种原子层沉积设备，其特征在于，该原子层沉积设备包括：

反应室，在其中经由工艺气体的反应将原子层沉积于基材的表面；

上盖板，其可密封地接合于所述反应室的顶部，并设置有开口，工艺气体经由所述开口进入所述反应室的内部腔室；

加载闭锁室，其安置于所述反应室的一侧且与所述反应室连通，配备有传送装置，所述传送装置经配置为将基材装载入所述反应室或将基材从所述反应室卸载；

气体分配器，其包括多个输入端口、多个输出端口、以及阀组，所述多个输入端口中的至少一部分经配置为输入工艺气体，所述多个输出端口中的至少一部分连通于工艺气体管道，所述阀组可控地选择所述多个输入端口和多个输出端口之间的连通关系；

所述工艺气体管道可经由所述反应室和上盖板接合处的接合件而密封地连通于所述上盖板的开口；当所述上盖板脱离与反应室的接合时，所述工艺气体管道在所述接合件处断开。

2.如权利要求1所述的原子层沉积设备，其特征在于，在所述反应室和加载闭锁室之间的通道位于反应室的入口处设置有挡板，所述挡板可以在露出所述通道的位置和封闭所述反应室的内部腔室的位置之间移动；所述反应室的内部腔室封闭时形状大体上对称、内壁装设有对沉积反应不敏感的耐受层。

3.一种原子层沉积设备，其特征在于，该原子层沉积设备包括：

反应室，在其中经由工艺气体的反应将原子层沉积于基材的表面；

上盖板，其可密封地接合于所述反应室的顶部，并设置有开口，工艺气体经由所述开口进入所述反应室的内部腔室；

加载闭锁室，其安置于所述反应室的一侧且与所述反应室连通，配备有传送装置，所述传送装置经配置为将基材装载入所述反应室或将基材从所述反应室卸载；

气体分配器，其包括多个输入端口、多个输出端口、以及阀组，所述多个输入端口中的至少一部分经配置为输入工艺气体，所述多个输出端口中的至少一部分经由工艺气体管道连通于所述上盖板的开口，所述阀组可控地选择所述多个输入端口和多个输出端口之间的连通关系；

在所述反应室和加载闭锁室之间的通道位于反应室的入口处设置有挡板，所述挡板可以在露出所述通道的位置和封闭所述反应室的内部腔室的位置之间移动；所述反应室的内部腔室封闭时形状大体上对称、内壁装设有对沉积反应不敏感的耐受层。

4.如权利要求1至3中任一项所述的原子层沉积设备，其特征在于，所述原子层沉积设备还包括旁路装置，所述气体分配器的多个输出端口中的一部分通过管道经由所述旁路装置连通于抽气管道，所述旁路装置中为其中每一管道设置有开关以在这些开关关闭时隔离所述气体分配器和所述抽气管道的运行。

5.如权利要求1至3中任一项所述的原子层沉积设备，其特征在于，所述原子层沉积设备还包括设置于所述上盖板一角的提升机构、以及设置于对角的环绕着固定导轨的滑道，所述上盖板可在所述提升机构、固定导轨和滑道的作用下移动以接合或脱离所述反应室。

6.如权利要求1至3中任一项所述的原子层沉积设备，其特征在于，所述原子层沉积设备还包括附着于所述上盖板的喷淋板，所述喷淋板连通于所述开口且经配置为将工艺气体均匀的喷淋到所述反应室中。

7.如权利要求6所述的原子层沉积设备，其特征在于，所述原子层沉积设备还包括加热保温组件，以防止气体冷凝。

8.如权利要求1至3中任一项所述的原子层沉积设备，其特征在于，所述原子层沉积设备还包括等离子体源，其经配置为产生等离子流以促进所述反应室中的化学反应。

9.如权利要求1至3中任一项所述的原子层沉积设备，其特征在于，所述原子层沉积设备还包括传片口，其在与所述反应室相反的一侧连接于所述加载闭锁室，且经配置为在大气环境下人工地置入或取出基材。

10.如权利要求1至3中任一项所述的原子层沉积设备，其特征在于，所述原子层沉积设备还包括与所述加载闭锁室连通的前端模块，其经配置为自动地置入或取出基材。